[发明专利]一种显示基板的制备方法、显示基板及显示装置有效

专利信息
申请号: 201710755090.9 申请日: 2017-08-29
公开(公告)号: CN109428007B 公开(公告)日: 2020-06-26
发明(设计)人: 代青 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L27/32
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 刘悦晗;陈源
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 显示 制备 方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种显示基板的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

在衬底基板上形成图形层;

在所述图形层上至少涂覆第一预聚合溶液,在加热条件下通过聚合反应生成聚合物,以形成第一平坦化层;

在所述第一平坦化层上形成第二平坦化层;

所述在所述图形层上至少涂覆第一预聚合溶液,包括:

在所述图形层上涂覆第一预聚合溶液;

部分挥发所述第一预聚合溶液,以使挥发后的第一预聚合溶液的液面低于最上层的图形层的上表面;

涂覆第二预聚合溶液,以使所述第一预聚合溶液和所述第二预聚合溶液混合。

2.如权利要求1所述的显示基板的制备方法,其特征在于,所述第一预聚合溶液的粘度小于50厘泊。

3.如权利要求1所述的显示基板的制备方法,其特征在于,所述方法还包括:

在所述第一预聚合溶液和所述第二预聚合溶液混合过程中,和/或,在聚合反应过程中,向所述第一预聚合溶液和所述第二预聚合溶液的混合溶液加载超声波。

4.如权利要求1所述的显示基板的制备方法,其特征在于,所述第一预聚合溶液和/或所述第二预聚溶液中含有光学活性材料。

5.如权利要求1所述的显示基板的制备方法,其特征在于,所述生成聚合物之后,所述方法还包括:

去除未充分聚合的所述第二预聚合溶液的混合溶液。

6.如权利要求1所述的显示基板的制备方法,其特征在于,所述挥发后的第一预聚合溶液的体积为挥发前的第一预聚合溶液的体积的10-30%。

7.如权利要求1所述的显示基板的制备方法,其特征在于,所述第一预聚合溶液和/或所述第二预聚合溶液含有催化剂或引发剂;所述通过聚合反应生成聚合物,具体包括:

所述第一预聚合溶液的第一预聚单体与所述第二预聚合溶液的第二预聚单体在所述催化剂或所述引发剂作用下发生共聚反应,生成所述聚合物。

8.如权利要求7所述的显示基板的制备方法,其特征在于,所述第一预聚单体和所述第二预聚单体其中之一为异氰酸酯类单体,另一个为羟基化合物类单体。

9.如权利要求1所述的显示基板的制备方法,其特征在于,所述通过聚合反应生成聚合物,具体包括:

所述第二预聚合溶液为引发剂,所述第一预聚合溶液的第一预聚单体在所述第二预聚合溶液的引发下发生自聚反应,生成所述聚合物;或者,

所述第一预聚合溶液为引发剂,所述第二预聚合溶液的第二预聚单体在所述第一预聚合溶液的引发下发生自聚反应,生成所述聚合物。

10.如权利要求9所述的显示基板的制备方法,其特征在于,所述第一预聚合溶液为引发剂,所述挥发后的第一预聚合溶液的质量百分比浓度小于或等于0.5%。

11.如权利要求9所述的显示基板的制备方法,其特征在于,所述引发剂为偶氮类引发剂或过氧类化合物引发剂。

12.一种显示基板的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

在衬底基板上形成图形层;

在所述图形层上涂覆第一预聚合溶液,所述第一预聚合溶液为第一预聚单体溶液,且含有引发剂;

部分挥发所述第一预聚合溶液,以使挥发后的第一预聚合溶液的液面不高于最上层的图形层的上表面;

在加热条件下,所述第一预聚合溶液的第一预聚单体在所述引发剂的引发下发生本体聚合反应生成聚合物,以形成第一平坦化层;

在所述第一平坦化层上形成第二平坦化层。

13.如权利要求12所述的显示基板的制备方法,其特征在于,所述第一预聚合溶液中含有光学活性材料。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710755090.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top