[发明专利]一种显示基板的制备方法、显示基板及显示装置

说明书

本发明提供一种显示基板的制备方法、显示基板及显示装置，在不增加平坦层总厚度的前提下，通过分两次形成两个平坦化层，得到包括两段式平坦化结构的显示基板，在形成第一平坦化层后，可以有效降低显示基板表面的段差，从而在制备第二平坦化层时，降低工艺难度，并满足平坦化工艺的要求。经试验证明，两层平坦化工艺可将显示基板表面的段差降低到20nm以内，从而保证形成在平坦化层上的功能器件能够正常工作。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种显示基板的制备方法、显示基板及显示装置。

背景技术

有机电子薄膜器件装置通常包括晶体管电路、发光装置(例如OLED)及光电感测元件。这些装置或元件从微观上看，通常都是由多层无机(如各种金属、半导体，绝缘介质等)薄膜和有机薄膜形成，且这些薄膜是图形化的，可以呈现线状，块状，条状等。图形化的薄膜相互交叠，即在不同区域交叠的薄膜层数不同导致厚度存在差异，出现凸凹不平的现象。图1为现有的显示基板的结构示意图，衬底基板300上设置有第一图形层100，第一图形层100上设置第二图形层200。图1中显示基板的最高点是两个图形层的重叠之处，其与衬底基板300所在平面的段差记为a1。在电路结构或晶体管器件(即上述图形层)制作完成后，会形成平坦化层400，以利于后续工艺步骤的进行，最常用的方法是在最上方的图形层表面涂覆液态的平坦化层材料，利用其流平特性进行平坦化，干燥固化后形成薄膜。

如图1所示，当图形层的段差a1过大时，单层的光刻胶涂覆很难满足平坦化的要求，或者，必须要足够厚的光刻胶才能达到一定的平坦度要求，这对后续工艺难度较大。对于某些功能器件而言，比如有机电致发光器件(OLED)，功能层厚度通常较薄，一般在20-100nm范围内，其对底层基板的表面平坦性能的要求非常高，衬底基板表面的细微不平会体现在发光亮度上，导致发光不均。

发明内容

本发明针对现有技术中存在的上述不足，提供一种显示基板的制备方法、显示基板及显示装置，用以至少部分解决现有的显示基板平坦化效果差，平坦化工艺难度大的问题。

本发明为解决上述技术问题，采用如下技术方案：

本发明提供一种显示基板的制备方法，包括以下步骤：

在衬底基板上形成图形层；

在所述图形层上至少涂覆第一预聚合溶液，在加热条件下通过聚合反应生成聚合物，以形成所述第一平坦化层；

在所述第一平坦化层上形成第二平坦化层。

优选的，所述第一预聚合溶液的粘度小于50厘泊。

优选的，所述在所述图形层上形成第一平坦化层，具体包括：

在所述图形层上至少涂覆第一预聚合溶液，在加热条件下通过聚合反应生成聚合物，以形成所述第一平坦化层。

优选的，所述在所述图形层上至少涂覆第一预聚合溶液，具体包括：

在所述图形层上依次涂覆第一预聚合溶液和第二预聚合溶液，以使所述第一预聚合溶液和所述第二预聚合溶液混合。

进一步的，所述显示基板的制备方法还包括：

在所述第一预聚合溶液和所述第二聚合溶液混合过程中，和/或，在聚合反应过程中，向所述混合溶液加载超声波。

优选的，所述第一预聚合溶液和/或所述第二预聚溶液中含有光学活性材料。

进一步的，所述生成聚合物之后，所述方法还包括：

去除未充分聚合的所述第一或第二预聚合溶液的混合溶液。

进一步的，所述涂覆第二预聚合溶液之前，所述方法还包括：