[发明专利]一种彩膜基板及其制作方法在审
| 申请号： | 201710755807.X | 申请日： | 2017-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN107621720A | 公开（公告）日： | 2018-01-23 |
| 发明（设计）人： | 李世春;张创优 | 申请（专利权）人： | 南京中电熊猫平板显示科技有限公司;南京中电熊猫液晶显示科技有限公司;南京华东电子信息科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02F1/1339;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 210033 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 彩膜基板 及其 制作方法 | ||
1.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：
S1：在衬底基板(100)上形成黑色矩阵(101)；
S2：在形成S1的基础上形成彩色滤光层(102)；
S3：在形成S2的基础上，覆盖含有交联剂的光阻材料形成的透明层(103)；
S4：对透明层(103)进行预烘烤，同时交联剂促进光阻材料内的丙烯酸树脂进行初步热交联反应；
S5：采用掩膜板对形成S4基础上的透明层(103)进行曝光，显影，形成平坦层(104)、主隔垫物(105)和副隔垫物(106)。
2.如权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于：所述的预烘烤温度为60～130℃，此温度为建议范围，但不严格限定于此范围。
3.如权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于：所述S2中，采用与S1步骤形成黑色矩阵相同的方法制作彩色滤光层。
4.如权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于：S5具体包括：完成步骤S4的基础上，通过掩膜板对透明层进行曝光，形成第一曝光区、第二曝光区和第三曝光区，第一曝光区形成平坦层，第二曝光区形成副隔垫物，第三曝光区形成主隔垫物。
5.如权利要求4所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于：第一曝光区透过率为0,为非曝光区，第二曝光区透过率小于第三曝光区，第三曝光区透过率为100％。
6.如权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于：还包括如下步骤：
S6：在上述基础上进行高温烘烤，使光阻材料完全稳定固化。
7.一种彩膜基板，其特征在于：包括黑色矩阵(101)、彩色滤光层(102)、以及形成于黑色矩阵(101)和彩色滤光层(102)上的透明层；所述透明层(103)包括一平坦层(104)、主隔垫物(105)和副隔垫物(106)，所述透明层由含有交联剂的光阻材料形成。
8.根据权利要求7所述的彩膜基板，其特征在于：所述平坦层(104)、主隔垫物(105)和副隔垫物(106)一体形成。
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