[发明专利]一种彩膜基板及其制作方法

说明书

技术领域

本发明涉及液晶显示器技术领域，特别涉及一种装配在液晶显示面板上的彩膜基板。

背景技术

薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display,TFT-LCD)凭借其功耗低、制造成本相对比较低和无辐射等特点，已经成为平板显示领域的主流技术。TFT-LCD由彩膜基板和阵列基板对盒而成，彩膜基板主要是将背光源过滤为红、绿和蓝三原色光，实现不同的色彩显示。

边缘场开关(Fringe Filed Switching,FFS)型TFT-LCD的广视角技术由于在大尺寸、高清晰度桌面显示器和液晶电视上的应用，而受到越来越多的关注。FFS技术通过同一平面内像素间电极产生边缘电场，使电极间以及电极正上方的取向液晶分子都能在(平行基板)平面方向发生旋转转换，从而提高液晶层的透光效率。因此，彩膜基板的平整度需要达到更高的标准。现有技术制备的彩膜基板的剖面图如图1所示，其包括衬底基板100、形成于衬底基板100上的黑色矩阵101、分布在黑色矩阵101中间的彩色滤光层102、覆盖在黑色矩阵101和彩色滤光层102上的平坦层103、形成于平坦层103上的主隔垫物104和副隔垫物105。其中平坦层103为热固化工艺，主隔垫物104、副隔垫物105为光固化和热固化工艺。由于平坦层和隔垫物分开制作，需要两条生产线先后完成，制作时间较长，占用生产资源也较多，成本较高。

发明内容

本发明的目的在于提供一种新的彩膜基板制作方法，通过新的工艺和材料设计，使得平坦层和隔垫物可通过一道工艺进行制作，节省工序。

为实现上述目的，本发明提供一种彩膜基板的制作方法，包括如下步骤：

S1、在衬底基板上形成黑色矩阵；

S2：在形成S1的基础上形成彩色滤光层；

S3：在形成S2的基础上，覆盖含有交联剂的光阻材料形成的透明层；

S4：对透明层进行预烘烤，同时交联剂促进光阻材料内的丙烯酸树脂进行初步热交联反应；

S5：采用掩膜板对形成S4基础上的透明层进行曝光，显影，形成平坦层、主隔垫物和副隔垫物；

S6：在上述基础上进行高温烘烤，使光阻材料完全稳定固化。

本发明的实施例提供一种彩膜基板及其制作方法，通过在形成黑矩阵以及彩色滤光层的情况下，先形成由含有低温交联剂的光阻材料构成的透明层，预烘烤后进行曝光，由于掩膜版不同区域的透过率不同，显影后，形成所需的平坦层、主隔垫物和副隔垫物。因此，平坦层和隔垫物部一体设计，同时形成，大大节省了工序，且具有很好的强度。

附图说明

图1是现有技术中彩膜基板的剖面图；

图2是本发明实施例的彩膜基板的剖面图；

图3是本发明在黑色矩阵和彩色滤光层上进行光阻涂布后的示意图；

图4是对图3所示的透明层进行预烘烤(低温热交联)的示意图；

图5是对图4所示的被处理后的透明层进行曝光(光反应)的示意图；

图6是对图5曝光后进行显影的示意图；

图7是对图6显影后进行后烘烤(高温热交联)的示意图。

具体实施方式

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对照附图说明本发明的具体实施方式。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图，并获得其他的实施方式。

为使图面简洁，各图中只示意性地表示出了与本发明相关的部分，它们并不代表其作为产品的实际结构。另外，以使图面简洁便于理解，在有些图中具有相同结构或功能的部件，仅示意性地绘示了其中的一个，或仅标出了其中的一个。

图2是本发明彩膜基板实施例的结构示意图，如图2所示，该彩膜基板包括一衬底基板100、形成于衬底基板100上的黑色矩阵101和彩色滤光层102、以及形成于黑色矩阵101和彩色滤光层102上的透明层103，所述透明层由含有交联剂的光阻材料形成，透明层103包括一平坦层104、主隔垫物105和副隔垫物106。

平坦层104覆盖在黑色矩阵101和彩色滤光层102上，主隔垫物105和副隔垫物106位于平坦层104上。平坦层104、主隔垫物105和副隔垫物106一体形成。

其中透明层103所使用的光阻材料添加有低温聚合用的交联剂，此交联剂用于透明层在60～130℃预烘烤时促进丙烯酸树脂进行初步热交联反应。