[发明专利]一种双层结构氧化沟

权利要求书

1.一种双层结构氧化沟，其特征在于，包括池体，所述池体由缺氧池、好氧池和二沉池组成；所述池体设有氧化沟进水管和回流污泥进水管；所述氧化沟进水管和所述回流污泥进水管与所述缺氧池相连；

所述好氧池与所述缺氧池在所述池体中形成上下双层结构，其中所述好氧池位于所述上下双层结构的上层，所述缺氧池位于所述双层结构的下层，所述好氧池为圆环状折流结构，所述好氧池内设有表面曝气机；所述缺氧池为圆环状结构，所述缺氧池内设有曝气系统；所述好氧池与所述缺氧池之间设有回流水道；

所述回流水道包括下水道和上水道，所述下水道用于将污水由好氧池引入缺氧池内，所述上水道位于所述曝气系统的上方，用于将污水由缺氧池引入好氧池内；

所述二沉池位于所述池体中央，被所述好氧池与所述缺氧池环绕，所述二沉池纵截面为倒T形结构；所述好氧池的出水渠与所述二沉池的进水管相连；所述二沉池内设有刮泥机，所述刮泥机连通二沉池的排泥管，所述二沉池还设有二沉池排水管和环形二沉池出水渠。

2.根据权利要求1所述的一种双层结构氧化沟，其特征在于，所述好氧池内设导流墙。

3.根据权利要求1所述的一种双层结构氧化沟，其特征在于，所述缺氧池内设潜水推流器。

4.根据权利要求1所述的一种双层结构氧化沟，其特征在于，所述曝气系统包括鼓风机、风管和曝气头，所述曝气系统的作用有两个，一是利用气提作用将缺氧池中的水提升至好氧池内，二是对缺氧池内的污水进行充氧。

5.根据权利要求4所述的一种双层结构氧化沟，其特征在于，所述曝气头采用孔径＞0.05mm的成品曝气盘。

6.根据权利要求1所述的一种双层结构氧化沟，其特征在于，所述二沉池内还设有环形结构的浮渣挡板、环形结构的出水堰板和排渣斗，所述浮渣挡板和所述出水堰板位于所述环形二沉池出水渠的内侧，所述排渣斗位于所述二沉池排水管与所述二沉池相连的一侧。

7.根据权利要求1所述的一种双层结构氧化沟，其特征在于，所述好氧池的有效池深为2.5～3.0m，所述缺氧池的有效池深为2.0～3.5m。

8.根据权利要求1所述的一种双层结构氧化沟，其特征在于，所述二沉池的表面负荷范围为1.5～1.8m³/(m²·h)。

9.根据权利要求1～8任意一项权利要求所述的一种双层结构氧化沟，其特征在于，所述好氧池、所述缺氧池、所述二沉池的有效容积之比为：1∶(1.26～1.5)∶(1.36～2.10)。