[发明专利]一种壳体的表面加工方法、壳体及移动终端在审

专利信息
申请号: 201710775047.9 申请日: 2017-08-31
公开(公告)号: CN107509333A 公开(公告)日: 2017-12-22
发明(设计)人: 张维;余江;林四亮;吴宇 申请(专利权)人: 维沃移动通信有限公司
主分类号: H05K5/02 分类号: H05K5/02;G02B1/10
代理公司: 北京润泽恒知识产权代理有限公司11319 代理人: 王洪
地址: 523860 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 壳体 表面 加工 方法 移动 终端
【权利要求书】:

1.一种壳体的表面加工方法,其特征在于,包括:

制作具有目标纹理的转印模具,所述目标纹理包括多条柱状的纹路,每条纹路上具有凹凸结构;

将所述目标纹理转印至壳体的表面上;

在所述壳体的目标纹理上形成反射膜;

在所述反射膜上形成遮蔽层。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述制作具有目标纹路的转印模具的步骤包括:

在基板上形成柱状的光刻胶;

对所述基板进行蚀刻处理,在所述柱状的光刻胶覆盖的区域之外形成凹槽以及在所述凹槽中形成凹凸结构;

在所述基板上形成金属层,所述金属层在所述凹槽中形成柱状的纹路以及在所述柱状的纹路中形成凹凸结构;

去除所述基板并复制所述金属层,形成具有目标纹路的转印模具。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述在基板上形成柱状的光刻胶的步骤包括:

在基板上印刷光刻胶;

在所述光刻胶上设置光罩并进行曝光处理,固化柱状的光刻胶;

去除所述光罩并对所述光刻胶进行显影处理,获得已固化的柱状的光刻胶。

4.根据权利要求1或2或3所述的方法,其特征在于,所述纹路的高度为10μm至12μm、横截面宽度为50μm至85μm,所述凹凸结构的直径为3μm至6μm。

5.根据权利要求1或2或3所述的方法,其特征在于,所述将所述目标纹理转印至壳体的表面上的步骤包括:

将所述转印模具中的所述目标纹理通过UV转印胶水转印至壳体的表面。

6.根据权利要求1或2或3所述的方法,其特征在于,所述在所述壳体转印的所述目标纹理上形成反射膜的步骤包括:

在真空中,加热作为靶材的第一金属和第二金属,形成第一金属气体和第二金属气体;

分别将所述第一金属气体和所述第二金属气体沉积在所述壳体的所述目标纹理上,形成到达预设层数和预设厚度的反射膜。

7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述第一金属为氧化硅,所述第二金属为氧化钛;

所述反射膜具有三层结构,其中,第一层和第三层为所述氧化钛层、第二层为所述氧化硅层。

8.根据权利要求1或2或3所述的方法,其特征在于,在温度为75℃至85℃下印刷15min至35min,形成厚度为7um至9um的遮蔽层。

9.根据权利要求1或2或3所述的方法,其特征在于,还包括:

将所述壳体加工成指定的形状。

10.一种壳体,其特征在于,采用如权利要求1至9任一项所述的壳体的表面加工方法制成。

11.一种移动终端,其特征在于,包括权利要求10所述的壳体。

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