[发明专利]一种反射件及其膜系结构的制备方法和红外线LED装置在审

专利信息
申请号: 201710786013.X 申请日: 2017-09-04
公开(公告)号: CN107783210A 公开(公告)日: 2018-03-09
发明(设计)人: 吴薛平;林志龙;林梦潺 申请(专利权)人: 厦门信达光电物联科技研究院有限公司
主分类号: G02B5/08 分类号: G02B5/08;H01L33/60
代理公司: 厦门市首创君合专利事务所有限公司35204 代理人: 连耀忠,叶碎银
地址: 361000 福建省厦门市*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 反射 及其 结构 制备 方法 红外线 led 装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及光学薄膜制备领域,特别是涉及一种反射件及其膜系结构的制备方法和红外线LED装置。

背景技术

随着物联网、人工智能、虚拟与现实及虹膜辨识技术的发展,作为感知器件的红外线LED产品需求日益旺盛,尤其是中大功率的红外线LED产品更是需求火爆。目前,多数的红外线中大功率LED产品为了提高红外线的发射强度,在其支架的反射杯内表面采用电镀的方法镀上贵金属金,以提高反射杯对红外线的反射率,从而实现提高红外线发射强度的目的。然而,反射杯采用镀金的方法需要消耗贵金属金,导致红外线LED支架成本较高;同时反射杯的生产工艺相对复杂。

发明内容

本发明提供了一种反射件及其膜系结构的制备方法和红外线LED装置,其克服了背景技术所述的红外线LED产品的反射件所存在的不足。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:一种反射件,用于红外线LED产品,包括本体,该本体具有空腔;还包括蒸镀在所述本体的空腔壁面以反射光线的膜系结构,该膜系结构从里到外包括多层膜,且各奇数层的膜均为氧化钽膜,各偶数层的膜均为氧化硅膜或氧化铝膜。

进一步的,各膜层的厚度不相同;所述空腔呈圆台形。

进一步的,各奇数层膜的厚度分别为54~450nm,所有奇数层膜的厚度从里到外先渐大后渐小;和/或,各偶数层膜的厚度分别为16~135nm,所述偶数层膜的厚度从里到外先渐大后渐小。

进一步的,所述本体为PPA或PCT材质;所有奇数层膜的总层数和所有偶数层膜的总层数分别为15层,所述膜系结构的总厚度为2500~2600nm。

本发明另提供一种反射件膜系结构的制备方法,用于对具有空腔的本体制作反射光线用的膜系结构,包括以下步骤:

1)清洁杯状本体的空腔壁面;

2)加热所述本体,将本体加热到250~300℃,并将本体放在夹具上并置入真空镀膜机中,将真空镀膜机抽真空到(5~9)×10-4Pa,将离子束流密度设置为180~201μA·cm-2

3)蒸镀氧化钽膜,且膜厚度控制在设定值;

4)蒸镀氧化硅膜或氧化铝膜,且膜厚度控制在设定值;

5)重复步骤3)、步骤4)数次,直至镀制完所有膜层,使所述本体的空腔壁面得到由多层膜组成的膜系结构且各奇数层的膜均为氧化钽膜,各偶数层的膜均为氧化硅膜或氧化铝膜。

进一步的,所述膜系结构的各膜层的厚度不相同。

进一步的,各奇数层膜的厚度分别为54~450nm,所有奇数层膜的厚度从里到外先渐大后渐小;和/或,各偶数层膜的厚度分别为16~135nm,所述偶数层膜的厚度从里到外先渐大后渐小。

进一步的,所述本体为PPA或PCT材质;所有奇数层膜的总层数和所有偶数层膜的总层数分别为15层;所述膜系结构的总厚度为2500~2600nm。

本发明另提供一种红外线LED装置,包括基板、设置在该基板上的红外线LED芯片,还包括如上述本发明所述的反射件,该反射件设置在基板上,所述红外线LED芯片位于反射件的空腔内。

进一步的,所述基板包括第一基底、第二基底和绝缘件,绝缘件设置在第一基底和第二基底之间,以对二者进行隔离;第一基底和第二基底上分别设有金属镀层,与所述红外线LED芯片的两个电极一一电连接。

相较于现有技术,本发明具有以下有益效果:

1、所述氧化钽膜和氧化硅膜或氧化铝膜组合而成的膜系结构可作为取代贵金属金的红外线反射膜层,从中保证在降低材料成本的条件下生成反射性能良好的红外线LED产品的反射件;

2、本发明采用蒸镀(电子束蒸发成膜技术)方式取代原来湿法电镀的方式,可以高效、简洁的工艺生产出所需的红外线LED产品的反射件,从中提高红外线LED产品的反射件的生产效率。

以下结合附图及实施例对本发明作进一步详细说明;但本发明的一种反射件及其膜系结构的制备方法和红外线LED装置不局限于实施例。

附图说明

图1是本发明的红外线LED装置的剖面示意图(含反射件);

图2是图1中I部分的放大示意图。

具体实施方式

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