[发明专利]设变光谱仪和光谱仪整合设计与制造方法

权利要求书

1.一种设变光谱仪的制造方法，其特征在于，包括：

取得参照光谱仪的多个参照参数与至少一设定规格；

整合所述参照光谱仪的所述多个参照参数的至少一必要参数到设变光谱仪，使所述设变光谱仪具有相同于所述参照光谱仪的所述设定规格；

依据光栅方程式得到所述设变光谱仪的多个自由参数；

设定所述设变光谱仪的设变入光组件于设变壳体的设变收光侧，使所述设变收光侧短于所述参照光谱仪的参照壳体的参照收光侧。

2.根据权利要求1所述的设变光谱仪的制造方法，其特征在于，还包括：设置至少一设变反射组件于所述设变入光组件和设变准直面镜之间。

3.根据权利要求1所述的设变光谱仪的制造方法，其特征在于，还包括：设置至少一设变反射组件于所述设变入光组件和设变凹面光栅之间。

4.根据权利要求1所述的设变光谱仪的制造方法，其特征在于，所述设定规格包括光谱范围，所述参照光谱仪的所述必要参数包括参照平面光栅和参照聚焦面镜的光路距离，所述参照聚焦面镜的焦距以及所述参照平面光栅条数，所述设变光谱仪的必要参数包括设变平面光栅和设变聚焦面镜的光路距离，所述设变聚焦面镜的焦距以及所述设变平面光栅条数。

5.根据权利要求4所述的设变光谱仪的制造方法，其特征在于，所述设定规格还包括分辨率，所述设变光谱仪的所述必要参数还包括所述设变入光组件和设变准直面镜的光路距离，所述参照光谱仪的所述必要参数还包括参照入光组件和参照准直面镜的光路距离。

6.根据权利要求2所述的设变光谱仪的制造方法，其特征在于，所述设定规格包括光谱范围，所述参照光谱仪的所述必要参数包括参照平面光栅和参照聚焦面镜的光路距离，所述参照聚焦面镜的焦距以及所述参照平面光栅条数，所述设变光谱仪的必要参数包括设变平面光栅和设变聚焦面镜的光路距离，所述设变聚焦面镜的焦距以及所述设变平面光栅条数。

7.根据权利要求6所述的设变光谱仪的制造方法，其特征在于，所述设定规格还包括分辨率，所述设变光谱仪的所述必要参数还包括所述设变入光组件和所述设变反射组件之间的光路距离加上所述设变反射组件和所述设变准直面镜之间的光路距离，所述参照光谱仪的分辨率设定为参照入光组件和参照准直面镜的光路距离。

8.根据权利要求1所述的设变光谱仪的制造方法，其特征在于，所述设定规格包括光谱范围，所述参照光谱仪的所述必要参数包括参照凹面光栅和光接收器的光路距离和所述参照凹面光栅条数，所述设变光谱仪的所述必要参数包括设变凹面光栅和设变光接收器的光路距离和所述设变凹面光栅条数。

9.根据权利要求8所述的设变光谱仪的制造方法，其特征在于，所述设定规格还包括分辨率，所述设变光谱仪的所述必要参数包括所述设变入光组件和所述设变凹面光栅的光路距离，所述参照光谱仪的所述必要参数包括参照入光组件和参照凹面光栅的光路距离。

10.根据权利要求3所述的设变光谱仪的制造方法，其特征在于，所述设定规格包括光谱范围，所述参照光谱仪的所述必要参数包括参照凹面光栅和光接收器的光路距离和所述参照凹面光栅条数，所述设变光谱仪的所述必要参数包括设变凹面光栅和设变光接收器的光路距离和所述设变凹面光栅条数。

11.根据权利要求10所述的设变光谱仪的制造方法，其特征在于，所述设定规格还包括分辨率，所述设变光谱仪的所述必要参数包括所述设变入光组件和所述设变反射组件之间的光路距离加上所述设变反射组件和所述设变凹面光栅之间的光路距离，所述参照光谱仪的所述必要参数包括参照入光组件和参照凹面光栅的光路距离。

12.根据权利要求5所述的设变光谱仪的制造方法，其特征在于，所述自由参数包括所述设变准直面镜、所述设变平面光栅、设变聚焦镜为穿透式、反射式及其组合。