[发明专利]设变光谱仪和光谱仪整合设计与制造方法有效

专利信息
申请号: 201710789148.1 申请日: 2017-09-05
公开(公告)号: CN109425430B 公开(公告)日: 2021-02-26
发明(设计)人: 洪健翔;张癸五;邓文城;吴永川;叶展良 申请(专利权)人: 台湾超微光学股份有限公司
主分类号: G01J3/28 分类号: G01J3/28;G01J3/02
代理公司: 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 代理人: 许志勇;李有财
地址: 中国台湾新竹市*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 光谱仪 整合 设计 制造 方法
【说明书】:

发明公开了一种设变光谱仪的制造方法,包括如下步骤:取得一参照光谱仪的多个参照参数与至少一设定规格;整合参照光谱仪的参照参数的至少一必要参数到一设变光谱仪,使设变光谱仪具有相同于参照光谱仪的设定规格;依据光栅方程式得到设变光谱仪的多个自由参数;以及设定设变光谱仪的一设变入光组件于一设变壳体的一设变收光侧,使设变收光侧短于参照光谱仪的一参照壳体的一参照收光侧。

技术领域

本发明涉及一种光学设备配置,尤其涉及一种设变光谱仪和设变光谱仪的制造方法。

背景技术

光谱仪是应用光学原理,将成分复杂的光分解为光谱线的科学仪器,其中对物质的结构和成分进行观测、分析和处理的基本设备,具有分析精度高、测量范围大、速度快和样品用量少等优点。因此,凡举分子特性的分辨,浓度的量测,物质的鉴定,天体光谱的量测等都需要光谱仪的协助,其中光谱仪更是广泛地被运用于冶金、地质、石油化工、医药卫生、环境保护、资源和水文勘测等各领域。

但是,光谱仪是一种精密的仪器,从开发到制作整个开发时程漫长,特别是对应各种的领域的需求时,光谱仪从光学设计、结构设计以及生产制程的各阶段中,不管是那个阶段都需经过一些测试、分析或检验,其中每个阶段都是重要并且耗时的。因此,如何在不影响光谱仪的功能下,缩短开发时程,是各家厂商现今努力的目标。

特别地,在一般光谱仪的光路设计和结构设计中,光谱仪的入光组件通常是设置于光谱仪壳体的长边,但是这样的设计将使光谱仪在各领域中难以进行系统整合。特别是在光谱仪规格皆已能被客户接受的情况下,却因为入光组件的结构设置位置,无法进行系统整合,使得整个光谱仪必须重新设计,以配合系统整合。但是这样的重新开发设计光谱仪的过程不只浪费了设计和制造的时间和人力,而且还会影响客户的后续整合应用的时间。因此,如何在保有现有光谱仪规格下,调整入光组件的位置,并以最少的时间制造一个达到系统整合的需求的新光谱仪是本发明一个重要的目标。

发明内容

本发明的一个目的在于提供一种设变光谱仪的制造方法,其中在最少一项设定规格与参照光谱仪相同下,改变设变光谱仪的设变入光组件设置位置,使设变光谱仪收光侧的宽度较窄于参照光谱仪的收光侧以利后续系统整合所需空间,并使应用范围更佳广泛。

本发明的一个目的在于提供一种设变光谱仪的制造方法,其中利用既有参照光谱仪的规格,设计并制造出新的设变光谱仪,并使设变光谱仪的收光侧更有利于后续系统整合。特别地,这样的方式将省略大量光学设计的人力成本和减少系统整合时所需的重新确认时间。

本发明的一个目的在于提供一种设变光谱仪的制造方法,其中经由至少一设变反射组件的设置,改变设变入光组件到设变凹面光栅的光学路径,从而增加设变入光组件设置位置的可变性,并使设变光谱仪的应用更加灵活。可以理解的,在另一光谱仪中,设变反射组件可将设置于设变入光组件和设变准直面镜之间。

为了达到以上至少一目的,本发明提供一种设变光谱仪的制造方法,包括:

取得参照光谱仪的多个参照参数与至少一设定规格。

整合参照光谱仪的参照参数的至少一必要参数到设变光谱仪,使设变光谱仪具有相同于参照光谱仪的设定规格。

依据光栅方程式得到设变光谱仪的多个自由参数。

为达到上述至少一目的,本发明还揭露另一种设变光谱仪的制造方法,包括:

取得参照光谱仪的多个参照参数与至少一设定规格,其中参照参数包括至少一必要参数以使参照光谱仪能达到设定规格。

设定设变光谱仪具有相同于参照光谱仪的必要参数,使设变光谱仪能达到设定规格。

在设变光谱仪能达到设定规格下,设定设变光谱仪的至少一设变参数,包括:

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