[发明专利]基板清洗装置

说明书

本发明涉及在喷射由液体与气体混合的混合流体的同时清洗基板时，可提高对所述基板的清洗效率，并且能够减少使用能源的基板清洗装置。为此，本发明提供一种基板清洗装置，包括：基板清洗部、压缩气体供应部、超纯水供应部、排气储罐单元、废水储罐单元、第一热交换单元、第二热交换单元。

技术领域

本发明涉及基板清洗装置，更详细地说涉在喷射由液体与气体混合的混合流体的同时清洗基板时，可提高对所述基板的清洗效率，并且能够减少使用能源的基板清洗装置。

背景技术

最近，随着智能视频设备的发展LED工艺技术也在快速发展。

尤其是，在LCD工艺技术中对改善LCD清洗工艺的重要性也正在得到重视，其中LCD清洗工艺减少LCD不合格量并且带来节省费用的效果。

但是，随着清洗工艺相关技术的发展出现初始设置费用过多、耗能增加以及排放环境有害物质的问题。

现在正在使用的清洗技术分为超纯水、醇类、烃类、卤素类等清洗剂消耗大的湿式清洗与需要大量初期投资费用以及运营费用的干式清洗。

在LCD工艺中大部分利用所述的湿式清洗，进而因使用的洗涤剂引起排放污染物质的问题。

并且，对于所述湿式清洗，由于所述洗涤剂撞击于所述基板的冲击力小，因此存在清除基板杂质的清洗效率低的问题。

因此，在最近基于污染物质的排放量少的超纯水流体，开发高压清洗装置(HPMJ)与使用各种流体的蒸汽清洗装置。

但是，现有的高压清洗装置以及蒸汽清洗装置存在初始设置费用以及维护费用高的问题。

并且，为了在蒸汽清洗装置产生蒸汽而提高温度的过程中存在耗电大的问题。

发明内容

本发明的目的在于提供如下的基板清洗装置：在喷射由液体与气体混合的混合流体的同时清洗基板时，提高对所述基板的清洗效率，并且并且能够减少使用能源。

为了达成上述目的，本发明提供一种基板清洗装置，包括：基板清洗部，清洗被污染的基板；压缩气体供应部，配置在所述基板清洗部外部，并且容纳供应于所述基板清洗部的压缩气体；超纯水供应部，配置在所述基板清洗部外部，并且容纳供应于所述基板清洗部的超纯水；排气储罐单元，与所述基板清洗部连接，并且容纳所述基板清洗部产生的排气；废水储罐单元，与所述基板清洗部连接，并且容纳所述基板清洗部产生的废水；第一热交换单元，配置在所述排气储罐单元与所述压缩气体供应部之间，对所述排气与所述压缩气体进行热交换；第二热交换单元，配置在所述废水储罐单元与所述超纯水供应部之间，对所述废水与所述超纯水进行热交换。

根据本发明另一实施形态，本发明还提供一种基板清洗装置，包括：基板清洗部，清洗被污染的基板；压缩气体供应部，配置在所述基板清洗部外部，并且容纳供应于所述基板清洗部的压缩气体；超纯水供应部，配置在所述基板清洗部外部，并且容纳供应于所述基板清洗部的超纯水；第一导热体容纳部，配置在所述基板清洗部外部，并且容纳在所述基板清洗部以外的设备中使用后的回收的第一导热体；第二导热体容纳部，配置在所述基板清洗部外部，并且容纳在所述基板清洗部以外的设备中使用后回收的第二导热体；第一热交换单元，接收所述第一导热体的热来加热所述压缩气体；第二热交换单元，接收第二导热体来加热所述超纯水。

附图说明

图1是示出根据本发明的基板清洗装置的第一实施例的图面。

图2是扩大示出根据本发明的清洗喷嘴的图面。

图3是示出根据本发明的基板清洗装置的第二实施例的图面。

图4是示出根据本发明的基板清洗装置的第三实施例的图面。

具体实施方法