[发明专利]光掩模的制造方法、光掩模以及显示装置的制造方法

说明书

提供光掩模的制造方法、光掩模以及显示装置的制造方法。能减少使用了光掩模的曝光工序中的杂散光的产生风险。一种光掩模的制造方法，该光掩模具有对透明基板上的遮光膜和半透光膜分别进行图案形成而形成的转印用图案，该转印用图案具有透光部、半透光部和遮光部，该制造方法具有：遮光膜图案形成工序，对透明基板上形成的遮光膜进行图案形成来形成遮光膜图案；半透光膜形成工序，在包含遮光膜图案的透明基板上形成半透光膜；透光部形成工序，部分地去除半透光膜、或半透光膜和遮光膜，从而形成透光部；半透光膜去除工序，去除遮光膜图案上的半透光膜，在去除工序，在成为半透光部的区域形成抗蚀剂图案，该抗蚀剂图案在半透光部和遮光部相邻的部分，在遮光部侧有附加了规定尺寸的余裕的尺寸。

技术领域

本发明涉及在以液晶面板或有机EL(电致发光)面板为代表的显示装置的制造中有用的光掩模及其制造方法、以及使用了该光掩模的显示装置的制造方法。

背景技术

已知有如下的光掩模：其具备对在透明基板上形成的遮光膜和半透光膜进行图案形成而形成的转印用图案。半透光膜是使在光掩模的曝光中使用的曝光光部分透过的膜。根据包含该半透光膜的转印用图案，能够将在对被转印体上的抗蚀剂膜进行感光和显影时形成的抗蚀剂图案的膜厚或形状控制成期望的状态。具有这样的转印用图案的光掩模除了用于半导体装置以外，还有效用于上述显示装置的制造。

如上述那样的光掩模包含下述专利文献1、2记载的多色调光掩模。多色调光掩模为具有色调的光掩模，也称作灰色调掩模。此外，作为具有半透光部的其他光掩模，具有如下的相移掩模：使用使曝光光的相位反转的相移膜，利用透过了光掩模后的光的干扰作用，由此提高分辨率或焦深。

专利文献1：日本特开2005-257712号公报

专利文献2：日本特开2007-114759号公报

发明内容

(发明所要解决的问题)

多色调光掩模的转印用图案具有遮光部、透光部和半透光部这样的光透射率不同的3个以上的部分，由此想要在被转印体上形成具有多个残留膜厚的抗蚀剂图案。在加工在被转印体上形成的薄膜时，该抗蚀剂图案被用作蚀刻掩模。在该情况下，在使用抗蚀剂图案进行第1蚀刻，接着对抗蚀剂图案进行减膜时，减膜后的抗蚀剂图案成为与第1蚀刻时不同的形状。因此，能够使用与第1蚀刻不同的形状的蚀刻掩模进行第2蚀刻。这样，多色调光掩模可以说是具有相当于多张光掩模的功能的光掩模，主要能够减少显示装置的制造所需的光掩模的张数，有助于提高生产效率。

上述专利文献1、2记载的多色调光掩模具有转印用图案，该转印用图案除了具有透明基板露出的透光部和使用了遮光膜的遮光部以外，还具有使用了使曝光光部分透过的半透光膜的半透光部。因此，例如考虑通过适当控制半透光部的光透射率或针对透射光的相位特性等，能够使在被转印体上形成的抗蚀剂图案的部分厚度或其截面形状等发生变化。因此，在设计多色调光掩模时，设定针对曝光时使用的光(曝光光)的期望的透射率或相位特性，选择适合该多色调光掩模的膜材料或膜厚，准备好成膜条件，由此能够形成具有期望的光特性的多色调光掩模。

但是，在专利文献1中记载了通过以下的方法制造的多色调光掩模(灰色调掩模)(参照图7和图8)。

首先，准备图7的(a)所示的光掩模坯体100。该光掩模坯体100在透明基板101上形成遮光膜102，在其上涂覆正性抗蚀剂而形成了抗蚀剂膜103。

接着，在使用激光描绘机等在抗蚀剂膜103上进行描绘(第1描绘)后，进行显影。由此，在与半透光部对应的区域(A区域)中，去除抗蚀剂膜103。此外，通过抗蚀剂膜103的残留，在与遮光部对应的区域(B区域)和与透光部对应的区域(C区域)中形成抗蚀剂图案103a(参照图7的(b))。