[发明专利]显示装置及其制造方法

权利要求书

1.一种制造显示装置的方法，所述方法包括：

在基底上形成有源层；

形成覆盖所述有源层的第一绝缘层；

在所述第一绝缘层上形成栅极金属线；

形成覆盖所述栅极金属线并且包括氧化硅的第三绝缘层；

在所述第三绝缘层上形成包括氮化硅的第四绝缘层；

在所述第四绝缘层上形成包括氧化硅的第五绝缘层；

在所述有源层和所述栅极金属线叠置的区域上方布置阻挡构件；

通过在所述第五绝缘层中掺杂氮离子并且使用所述阻挡构件作为掩模，在所述第五绝缘层的一部分中形成第五辅助绝缘层，并且在所述第五绝缘层中的其中未注入有氮离子的另一部分中形成第五主绝缘层；

去除所述阻挡构件；

通过去除所述第五绝缘层的所述第五主绝缘层的不与所述第五辅助绝缘层叠置的部分使所述第四绝缘层的上表面的一部分暴露。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述去除所述第五主绝缘层的所述部分的步骤包括使用抛光装置对所述第五主绝缘层进行抛光。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第五辅助绝缘层位于所述第五绝缘层的所述一部分内的上部上，所述第五主绝缘层位于所述第五绝缘层的所述一部分内的下部上。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，所述阻挡构件包括光敏膜图案。

5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述阻挡构件包括荫罩。

6.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第五辅助绝缘层不形成在所述有源层与所述栅极金属线叠置的区域上方。

7.根据权利要求1所述的方法，其中，通过对所述第五主绝缘层进行抛光，使所述第五主绝缘层的其上未设置有第五辅助绝缘层的上表面位于与所述第四绝缘层的上表面的一部分的水平表面同一水平表面上。

8.根据权利要求1所述的方法，其中，所述形成所述栅极金属线的步骤包括：

在所述第一绝缘层上形成第一栅极金属线；

形成覆盖所述第一栅极金属线的第二绝缘层；

在所述第二绝缘层上形成第二栅极金属线，并且使所述第二栅极金属线与所述第一栅极金属线部分地叠置，

其中，所述阻挡构件位于所述有源层与所述第一栅极金属线叠置的部分上方。

9.根据权利要求8所述的方法，其中，所述阻挡构件还位于所述有源层、所述第一栅极金属线和所述第二栅极金属线叠置的部分上方。

10.根据权利要求1所述的方法，所述方法还包括：

在所述第五辅助绝缘层上形成数据金属线；

形成覆盖所述数据金属线的钝化层；

在所述钝化层上形成第一电极；

在所述第一电极上形成发射层；

在所述发射层上形成第二电极，

其中，所述钝化层与所述第五主绝缘层的其上未设置有所述第五辅助绝缘层的区域接触。

11.一种显示装置，所述显示装置包括：

基底；

有源层，位于所述基底上；

第一绝缘层，覆盖所述有源层；

第一栅极金属线，位于所述第一绝缘层上；

第三绝缘层，覆盖所述第一栅极金属线并且包括氧化硅；

第四绝缘层，位于所述第三绝缘层上并且包括氮化硅；

第五主绝缘层，位于所述第四绝缘层上并且包括氧化硅；以及

第五辅助绝缘层，位于所述第五主绝缘层的一部分上并且包括氮化硅，

其中，第五绝缘层包括所述第五主绝缘层和所述第五辅助绝缘层，

其中，所述第五主绝缘层的其上未设置有第五辅助绝缘层的上表面位于与所述第四绝缘层的上表面的一部分的水平表面同一水平表面上，

其中，所述第五辅助绝缘层不位于所述有源层与所述第一栅极金属线叠置的区域上方。