[发明专利]掩膜板、彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置

权利要求书

1.一种掩膜板，用于制作彩膜基板上的彩色滤光单元，其特征在于，所述掩膜板包括对应所述彩膜基板的像素区域的透光图形，还包括对应所述彩膜基板的虚拟像素区的部分透光图形。

2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板还包括对应所述彩膜基板的黑矩阵区域和封装区域的不透光图形。

3.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述部分透光图形的透光率为25-40％。

4.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括：

在衬底基板上涂布彩色负性光阻材料，利用如权利要求1-3中任一项所述的掩膜板对所述彩色负性光阻材料进行曝光，显影后保留像素区域的彩色负性光阻材料，去除虚拟像素区的部分彩色负性光阻材料。

5.根据权利要求4所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述掩膜板还包括对应所述彩膜基板的黑矩阵区域和封装区域的不透光图形，所述方法还包括：

显影后去除黑矩阵区域和封装区域的彩色负性光阻材料。

6.根据权利要求4所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述掩膜板包括第一掩膜板、第二掩膜板和第三掩膜板，所述第一掩膜板包括对应第一子像素区域的透光图形和对应虚拟像素区的部分透光图形，所述第二掩膜板包括对应第二子像素区域的透光图形和对应虚拟像素区的部分透光图形，所述第三掩膜板包括对应第三子像素区域的透光图形和对应虚拟像素区的部分透光图形，所述方法具体包括：

在衬底基板上涂布第一颜色的负性光阻材料，利用所述第一掩膜板对所述第一颜色的负性光阻材料进行曝光，显影后保留第一子像素区域的第一颜色的负性光阻材料，去除虚拟像素区的部分第一颜色的负性光阻材料；

在衬底基板上涂布第二颜色的负性光阻材料，利用所述第二掩膜板对所述第二颜色的负性光阻材料进行曝光，显影后保留第二子像素区域的第二颜色的负性光阻材料，去除虚拟像素区的部分第二颜色的负性光阻材料；

在衬底基板上涂布第三颜色的负性光阻材料，利用所述第三掩膜板对所述第三颜色的负性光阻材料进行曝光，显影后保留第三子像素区域的第三颜色的负性光阻材料，去除虚拟像素区的部分第三颜色的负性光阻材料。

7.一种彩膜基板，所述彩膜基板包括像素区域和位于像素区域周边的虚拟像素区，其特征在于，所述虚拟像素区的所有膜层的总厚度与所述像素区域的彩色滤光单元的厚度的差值小于预设阈值。

8.根据权利要求7所述的彩膜基板，其特征在于，所述虚拟像素区的所有膜层的总厚度等于所述像素区域的彩色滤光单元的厚度。

9.一种液晶显示面板，其特征在于，包括如权利要求7或8所述的彩膜基板。

10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求9所述的液晶显示面板。