[发明专利]掩膜板、彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是指一种掩膜板、彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置。

背景技术

现有技术在制作液晶显示面板的彩膜基板时，是在衬底基板上涂布彩色负性光阻材料，利用掩膜板对彩色负性光阻材料进行曝光，制作彩膜基板的掩膜板包括对应像素区域的透光图形，显影后像素区域的彩色负性光阻材料得以保留形成彩色滤光单元。

其中，制作彩膜基板的掩膜板还包括对应像素区域周边的虚拟像素区的透光图形，这样在每一次曝光显影过程中，虚拟像素区的彩色负性光阻材料都会被保留下来，经过三次曝光显影工艺之后，虚拟像素区的膜厚会比像素区域的膜厚大很多，形成像素区域膜厚低，虚拟像素区膜厚高的结构，使得彩膜基板和阵列基板对盒后的液晶盒的中间区域与边缘区域的盒厚不一致，这样在液晶盒内填充液晶后，会导致液晶在液晶盒内扩散不充分，容易导致液晶显示面板的边缘位置出现漏光。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种掩膜板、彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置，能够防止液晶显示面板的边缘位置出现漏光。

为解决上述技术问题，本发明的实施例提供技术方案如下：

一方面，提供一种掩膜板，用于制作彩膜基板上的彩色滤光单元，所述掩膜板包括对应所述彩膜基板的像素区域的透光图形，还包括对应所述彩膜基板的虚拟像素区的部分透光图形。

进一步地，所述掩膜板还包括对应所述彩膜基板的黑矩阵区域和封装区域的不透光图形。

进一步地，所述部分透光图形的透光率为25-40％。

本发明实施例还提供了一种彩膜基板的制作方法，包括：

在衬底基板上涂布彩色负性光阻材料，利用如上所述的掩膜板对所述彩色负性光阻材料进行曝光，显影后保留像素区域的彩色负性光阻材料，去除虚拟像素区的部分彩色负性光阻材料。

进一步地，所述掩膜板还包括对应所述彩膜基板的黑矩阵区域和封装区域的不透光图形，所述方法还包括：

显影后去除黑矩阵区域和封装区域的彩色负性光阻材料。

进一步地，所述掩膜板包括第一掩膜板、第二掩膜板和第三掩膜板，所述第一掩膜板包括对应第一子像素区域的透光图形和对应虚拟像素区的部分透光图形，所述第二掩膜板包括对应第二子像素区域的透光图形和对应虚拟像素区的部分透光图形，所述第三掩膜板包括对应第三子像素区域的透光图形和对应虚拟像素区的部分透光图形，所述方法具体包括：

在衬底基板上涂布第一颜色的负性光阻材料，利用所述第一掩膜板对所述第一颜色的负性光阻材料进行曝光，显影后保留第一子像素区域的第一颜色的负性光阻材料，去除虚拟像素区的部分第一颜色的负性光阻材料；

在衬底基板上涂布第二颜色的负性光阻材料，利用所述第二掩膜板对所述第二颜色的负性光阻材料进行曝光，显影后保留第二子像素区域的第二颜色的负性光阻材料，去除虚拟像素区的部分第二颜色的负性光阻材料；

在衬底基板上涂布第三颜色的负性光阻材料，利用所述第三掩膜板对所述第三颜色的负性光阻材料进行曝光，显影后保留第三子像素区域的第三颜色的负性光阻材料，去除虚拟像素区的部分第三颜色的负性光阻材料。

本发明实施例还提供了一种彩膜基板，所述彩膜基板包括像素区域和位于像素区域周边的虚拟像素区，所述虚拟像素区的所有膜层的总厚度与所述像素区域的彩色滤光单元的厚度的差值小于预设阈值。

进一步地，所述虚拟像素区的所有膜层的总厚度等于所述像素区域的彩色滤光单元的厚度。

本发明实施例还提供了一种液晶显示面板，包括如上所述的彩膜基板。

本发明实施例还提供了一种显示装置，包括如上所述的液晶显示面板。

本发明的实施例具有以下有益效果：

上述方案中，制作彩膜基板的掩膜板包括对应彩膜基板的像素区域的透光图形，还包括对应彩膜基板的虚拟像素区的部分透光图形，这样在衬底基板上涂布彩色负性光阻材料后，利用掩膜板对彩色负性光阻材料进行曝光，显影后能够去除虚拟像素区的部分彩色负性光阻材料，从而减薄虚拟像素区的膜层厚度，使得虚拟像素区的膜层厚度与彩色滤光单元的厚度接近，进而使得彩膜基板和阵列基板对盒后形成的液晶盒的盒厚在中央区域和边缘区域保持一致，这样在液晶盒内填充液晶后，能够使得液晶在液晶盒内充分扩散均匀，避免液晶显示面板的边缘位置出现漏光。

附图说明

图1为现有技术制作彩膜基板的掩膜板的示意图；

图2为现有技术彩膜基板的结构示意图；