[发明专利]掩膜板、透镜阵列及其制备方法、显示面板

说明书

一种掩膜板、透镜阵列及其制备方法、显示面板。该掩膜板包括至少一个图案单元，图案单元包括透明基板和设置在透明基板上的半透膜，半透膜的透射率在所述图案单元内部至少沿垂直于所述半透膜厚度方向的第一方向上逐渐变化。该透镜阵列包括至少一个透镜单元，该透镜阵列的制备方法包括：使用该掩膜板，通过光刻工艺形成所述透镜阵列，并且所述掩膜板的图案单元与所述透镜单元一一对应。该制备方法工艺简单，成本低廉。该显示面板包括上述透镜阵列，通过透镜阵列对光的折射可以达到调节显示面板视角的技术效果。

技术领域

本发明的实施例涉及一种掩膜板、透镜阵列及其制备方法、显示面板。

背景技术

透镜阵列是制备某些小型光电子系统的关键元件，它具有体积小、厚度薄、质量轻等优点，因此能够实现普通光学元件难以实现的某些功能，例如元件微小化、阵列化、集成度高、成像质量好及可用于波面转换等，因此可广泛应用于光纤通讯、LED照明、汽车照明、数码相机、生物医疗等诸多领域。

但是，现有的透镜阵列制备技术大多工艺复杂，并且只能制备平凸或平凹微透镜。

发明内容

本发明至少一实施例提供一种掩膜板，包括至少一个图案单元，所述图案单元包括透明基板和设置在所述透明基板上的半透膜，所述半透膜的透射率在所述图案单元内部至少沿垂直于所述半透膜厚度方向的第一方向上逐渐变化。

本发明至少一实施例提供的一种掩膜板中，所述半透膜的透射率在所述图案单元内从边缘到中心逐渐增加或逐渐减小。

本发明至少一实施例提供的一种掩膜板中，所述半透膜的厚度在所述图案单元内部逐渐变化从而使得所述半透膜的透射率在所述图案单元内部逐渐变化；或者所述半透膜的材料的透射率在所述图案单元内部逐渐变化从而使得所述半透膜的透射率在所述图案单元内部逐渐变化。

本发明至少一实施例提供的一种掩膜板中，所述半透膜掺杂有不透明染料并且所述不透明染料的掺杂浓度在所述半透膜内部逐渐变化，从而使得所述半透膜的材料的透射率在所述图案单元内部逐渐变化。

本发明至少一实施例提供一种透镜阵列的制备方法，所述透镜阵列包括至少一个透镜单元，该方法包括：使用权利要求上述任一所述的掩膜板，通过光刻工艺形成所述透镜阵列，其中，所述掩膜板的图案单元与所述透镜单元一一对应。

本发明至少一实施例提供的一种透镜阵列的制备方法中，通过两次光刻工艺形成双面透镜阵列，且所述两次光刻工艺所使用的光刻胶的极性相反。

本发明至少一实施例提供的一种透镜阵列的制备方法中，所述通过两次光刻工艺形成双面透镜阵列包括：在基底上形成第一极性光刻胶层；使用第一掩膜板对所述第一极性光刻胶层曝光，然后进行显影以形成具有第一透镜形状的第一光刻胶图案；使用所述第一光刻胶图案对基底的表面进行第一刻蚀工艺形成第一透镜阵列表面；在所述第一透镜阵列表面上形成透镜材料层；在所述透镜材料层表面上形成第二极性光刻胶层，其中所述第一极性和所述第二极性相反；使用第二掩膜板对所述第二极性光刻胶层曝光，然后进行显影形成具有第二透镜形状的第二光刻胶图案；使用所述第二光刻胶图案对所述透镜材料层进行第二刻蚀工艺以形成第二透镜阵列表面，其中，所述第一掩膜板和所述第二掩模板为上述任一掩膜板。

本发明至少一实施例提供的一种透镜阵列的制备方法中，所述透镜材料层的形成厚度等于最终所要形成的透镜阵列的厚度。

本发明至少一实施例提供的一种透镜阵列的制备方法中，所述第一掩膜板和所述第二掩模板为同一个掩模板。

本发明至少一实施例提供的一种透镜阵列的制备方法中，所述第一透镜阵列表面的透镜单元与所述第二透镜阵列表面的透镜单元一一对应。

本发明至少一实施例提供的一种透镜阵列的制备方法中，所述第一刻蚀工艺和所述第二刻蚀工艺为干刻工艺。