[发明专利]一种超薄壳层隔绝大粒径金纳米粒子的合成方法

权利要求书

1.一种超薄壳层隔绝大粒径金纳米粒子的合成方法，其特征在于包括以下步骤：

1)利用柠檬酸钠作为还原剂，水作为溶剂，氯金酸作为前驱体，合成直径为3～16nm的Au纳米粒子；

2)以步骤1)合成的直径为3～16nm的Au纳米粒子作为晶种，加入还原剂和Au的前驱体盐，合成直径为30～60nm的Au纳米粒子；

3)以步骤2)合成的直径为30～60nm的Au纳米粒子作为晶种，加入还原剂和Au的前驱体盐，合成直径在100nm以上的Au纳米粒子；

4)将步骤3)合成的直径在100nm以上的Au纳米粒子加入容器中，再分别加入硅烷偶联剂和硅的前驱体溶液，移入水浴中，控制反应时间得到不同壳层厚度的二氧化硅壳层，得纳米粒子；

5)将步骤4)所得的纳米粒子离心分离，得到的浓缩液滴在待测基底上，即得超薄壳层隔绝大粒径金纳米粒子。

2.如权利要求1所述一种超薄壳层隔绝大粒径金纳米粒子的合成方法，其特征在于在步骤1)中，所述Au纳米粒子的直径为16nm。

3.如权利要求1所述一种超薄壳层隔绝大粒径金纳米粒子的合成方法，其特征在于在步骤2)中，所述Au纳米粒子的直径为45nm。

4.如权利要求1所述一种超薄壳层隔绝大粒径金纳米粒子的合成方法，其特征在于在步骤3)中，所述Au纳米粒子直径为100～500nm，优选100～200nm。

5.如权利要求1所述一种超薄壳层隔绝大粒径金纳米粒子的合成方法，其特征在于在步骤2)和3)中，所述还原剂选自溴化十六烷基三甲铵、柠檬酸、抗坏血酸、乙二醇、戊二醇中的至少一种。

6.如权利要求1所述一种超薄壳层隔绝大粒径金纳米粒子的合成方法，其特征在于在步骤2)和3)中，所述金前驱体盐为氯金酸。

7.如权利要求1所述一种超薄壳层隔绝大粒径金纳米粒子的合成方法，其特征在于在步骤4)中，所述偶联剂选自氨基硅烷、巯基硅烷中的一种。

8.如权利要求1所述一种超薄壳层隔绝大粒径金纳米粒子的合成方法，其特征在于在步骤4)中，所述硅前驱体选自硅酸钠、正硅酸四乙酯中的一种；所述硅烷偶联剂与硅的前驱体溶液的体积比为(0.1～1)︰(1～10)。

9.如权利要求1所述一种超薄壳层隔绝大粒径金纳米粒子的合成方法，其特征在于在步骤4)中，所述反应的温度为60～100℃，反应的时间为0.1～10h；所述不同壳层厚度的二氧化硅壳层的厚度可为1～6nm。

10.如权利要求1所述一种超薄壳层隔绝大粒径金纳米粒子的合成方法，其特征在于在步骤5)中，所述离心的转速为2000～6000r/min，离心的时间为10～20min。