[发明专利]阵列基板及其制造方法、液晶面板

权利要求书

1.一种阵列基板，其特征在于，所述阵列基板包括：

衬底基材；

栅极图案，位于所述衬底基材上；

栅极绝缘层，位于所述衬底基材上并覆盖所述栅极图案；

源极图案和漏极图案，间隔设置于所述栅极绝缘层上；

第一钝化层，位于所述栅极绝缘层上，并覆盖源极图案和漏极图案；

色阻图案，位于所述第一钝化层上，所述色阻图案开设有未贯穿所述色阻图案的排气孔；

第二钝化层，位于所述色阻图案上，所述第二钝化层开设有过孔，所述过孔与所述排气孔导通以供所述色阻图案内的气体逸出。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述排气孔的侧面和所述过孔的侧面均为斜面。

3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述排气孔在衬底基材上的正投影落于所述过孔在衬底基材上的正投影之内。

4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述排气孔和所述过孔设置于所述阵列基板的像素的显示开口区域之外。

5.一种液晶面板，其特征在于，所述液晶面板包括权利要求1～4任一项所述的阵列基板，以及与所述阵列基板相对间隔的彩膜基板。

6.一种阵列基板的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括：

提供一衬底基材；

在所述衬底基材上依次形成栅极图案、栅极绝缘层、源极图案和漏极图案、及第一钝化层，所述栅极绝缘层覆盖所述栅极图案，所述源极图案和漏极图案间隔设置于所述栅极绝缘层上，所述第一钝化层覆盖所述源极图案和漏极图案；

在所述第一钝化层上形成色阻图案，并在所述色阻图案上开设未贯穿所述色阻图案的排气孔；

在所述色阻图案上形成第二钝化层，并在所述第二钝化层上开设过孔，所述过孔与所述排气孔导通以供所述色阻图案内的气体逸出。

7.根据权利要求6所述的制造方法，其特征在于，在所述色阻图案上开设未贯穿所述色阻图案的排气孔，包括：

在所述第一钝化层上形成光阻层；

采用光罩对所述光阻层进行曝光显影，以去除预定区域的光阻层；

刻蚀去除未被所述预定区域的光阻层遮盖的色阻图案，以形成未贯穿所述色阻图案的排气孔；

去除剩余光阻层。

8.根据权利要求6所述的制造方法，其特征在于，设置所述排气孔的侧面和所述过孔的侧面均为斜面。

9.根据权利要求6所述的制造方法，其特征在于，设置所述排气孔在衬底基材上的正投影落于所述过孔在衬底基材上的正投影之内。

10.根据权利要求9所述的制造方法，其特征在于，设置所述排气孔设置于所述阵列基板的像素的显示开口区域之外。