[发明专利]阵列基板及其制造方法、液晶面板

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体而言涉及一种阵列基板及其制造方法、液晶面板。

背景技术

基于COA(Color Filter on Array,彩色滤波阵列)技术的液晶面板在撞击时容易产生Bubble(气泡)，其原因主要有两个：一个是局部位置色阻图案的过孔与TFT(Thin Film Transistor,薄膜晶体管)的过孔重叠，重叠位置的PV层(Passivation,钝化层)被刻蚀掉，导致色阻图案中的气体在成盒制程后从重叠位置析出并形成Bubble，改善对策是扩大色阻图案的过孔大小，使其与TFT过孔不重叠，但这样会降低穿透率。第二个是在震动过程中由于PV层开裂导致色阻图案中的气体析出而形成Bubble，改善对策是在色阻图案上开设小尺寸的排气孔，色阻图案的气体通过排气孔在成盒制程之前排出，但是色阻图案的刻蚀率低于PV层的刻蚀率，容易因刻蚀深度不够导致气体无法析出。

由此可见，如何形成排出色阻图案内气体的路径，以降低液晶面板出现Bubble的风险是当前业界迫切需要解决的问题。

发明内容

有鉴于此，本发明提供一种阵列基板及其制造方法、液晶面板，能够形成排出色阻图案内气体的路径，有利于排出色阻图案内的气体，并降低液晶面板出现Bubble的风险。

本发明一实施例的阵列基板，包括：

衬底基材；

栅极图案，位于衬底基材上；

栅极绝缘层，位于衬底基材上并覆盖栅极图案；

源极图案和漏极图案，间隔设置于栅极绝缘层上；

第一钝化层，位于栅极绝缘层上并覆盖源极图案和漏极图案；

色阻图案，位于第一钝化层上，所述色阻图案开设有未贯穿色阻图案的排气孔；

第二钝化层，位于色阻图案上，所述第二钝化层开设有过孔，所述过孔与排气孔导通以供色阻图案内的气体逸出。

本发明一实施例的液晶面板，包括上述阵列基板以及与所述阵列基板相对间隔的彩膜基板。

本发明一实施例的阵列基板的制造方法，包括：

提供一衬底基材；

在衬底基材上依次形成栅极图案、栅极绝缘层、源极图案和漏极图案、以及第一钝化层，栅极绝缘层覆盖栅极图案，源极图案和漏极图案间隔设置于栅极绝缘层上，第一钝化层覆盖源极图案和漏极图案；

在第一钝化层上形成色阻图案，并在色阻图案上开设未贯穿色阻图案的排气孔；

在色阻图案上形成第二钝化层，并在第二钝化层上开设过孔，所述过孔与排气孔导通以供色阻图案内的气体逸出。

有益效果：本发明设计色阻图案开设有未贯穿色阻图案的排气孔，位于色阻图案上的钝化层开设有过孔，色阻图案内的气体从排气孔析出后可以由过孔排出，从而形成排出色阻图案内气体的路径，并且本发明在色阻图案上开设排气孔，整体上提升了排气孔的深度，有利于排出色阻图案内的气体，降低液晶面板出现Bubble的风险。

附图说明

图1是本发明一实施例的阵列基板的结构剖视图；

图2是本发明一实施例的阵列基板的制造方法的流程示意图；

图3是本发明一实施例的液晶面板的结构剖视图。

具体实施方式

本发明的主要目的是：设计色阻图案开设有未贯穿色阻图案的排气孔，位于色阻图案上的钝化层开设有过孔，色阻图案内的气体从排气孔析出后可以由过孔排出，本发明相当于提升了排气孔的深度，从而有利于排出色阻图案内的气体，降低液晶面板出现Bubble的风险。

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明所提供的各个示例性的实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。在不冲突的情况下，下述各个实施例及其技术特征可以相互组合。并且，本发明下文各个实施例所采用的方向性术语，例如“上”、“下”等，均是为了更好的描述各个实施例，并非用于限制本发明的保护范围。

图1是本发明一实施例的阵列基板的结构剖视图。请参阅图1，本实施例的阵列基板10包括衬底基材11以及依次形成于该衬底基材11上的各层结构：栅极图案12、栅极绝缘层(Gate Insulation Layer,GI层)13、半导体图案14、源极图案151和漏极图案152、第一钝化层16、色阻图案17、第二钝化层18以及像素电极图案19。

其中，栅极绝缘层13为覆盖栅极图案12的一整面结构，源极图案151和漏极图案152位于同一层且间隔设置于栅极绝缘层13上，第一钝化层16为覆盖源极图案151和漏极图案152的一整面结构。