[发明专利]彩膜基板的制作方法

权利要求书

1.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述彩膜基板的制作方法包括如下步骤：

步骤S10、提供一基板；

步骤S20、在所述基板表面形成RGB色阻，所述RGB色阻包括至少四个阵列分布的色阻区，每个色阻区包括依次分布的第一色阻块、第二色阻块和第三色阻块，所述RGB色阻的上表面包括出光区域；

步骤S30、在所述RGB色阻表面形成黑色矩阵，所述黑色矩阵覆盖于所述RGB光阻表面中除所述出光区域以外的部分；

步骤S40、在所述RGB色阻之间空白区域的黑色矩阵表面形成支撑柱，所述支撑柱每隔一个色阻区设置一个；

步骤S50、在所述基板的上方形成保护层，所述保护层整面覆盖所述黑色矩阵、所述支撑柱和所述RGB色阻；

其中，采用所述支撑柱与所述黑色矩阵结合互补的设置用以防止所述RGB色阻出射光线相互混色。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述第一色阻块为红色色阻块，所述第二色阻块为绿色色阻块，所述第三色阻块为蓝色色阻块。

3.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述基板为刚性衬底或柔性衬底。

4.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述黑色矩阵的制备材料为有机光阻、不透光金属、金属氧化物和氮化物中的其中一者。

5.根据权利要求4所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述黑色矩阵为有机物光阻，所述黑色矩阵是通过采用喷嘴印刷技术或墨水喷射印刷技术将所述有机物光阻的材料设置在所述RGB光阻表面中除所述出光区域以外的部分来形成的。

6.根据权利要求4所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述黑色矩阵为不透光金属或者金属氧化物，所述黑色光阻是通过采用热蒸镀技术或磁控溅射技术将所述不透光金属或者所述金属氧化物设置在所述RGB光阻表面中除所述出光区域以外的部分来形成的。

7.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述支撑柱的长度所述RGB色阻长边长度相同。

8.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述支撑柱的制备材料为黑色框胶、不透光金属、金属氧化物、氮化物和透明OLED封装框胶中的其中一者。

9.根据权利要求8所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述支撑柱为有机物光阻，所述支撑柱是通过采用喷嘴印刷技术或墨水喷射印刷技术将所述有机物光阻的材料设置在所述RGB色阻之间的空白区域的黑色矩阵表面来形成的。

10.根据权利要求9所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述支撑柱为有机物溶液涂布形成，所述支撑柱是通过在涂布有机物溶液的同时对所述有机物溶液进行固化来形成的。