[发明专利]载盘及使用该载盘的电子元件量测方法及装置

权利要求书

1.一种载盘，包括：

数个载槽，环列布设于载盘的周缘，所述载槽设有一由该载槽的内周侧朝该载槽中央处延伸凸出的遮盖部与一可供一待测元件载入的置纳空间；

其特征在于，该遮盖部位于所述载槽的上方，该遮盖部遮盖待测组件顶部部分面积，可供该待测元件载入的该置纳空间设于该遮盖部的下方。

2.如权利要求1所述的载盘，其特征在于，该置纳空间左、右两侧的底部各设有一闪避区间。

3.如权利要求1所述的载盘，其特征在于，该载槽的上方设有一镂空部，可显露未被该遮盖部遮盖的该待测元件顶部。

4.如权利要求1所述的载盘，其特征在于，该遮盖部设于该载槽的内、外两侧。

5.如权利要求1所述的载盘，其特征在于，该遮盖部设于该载槽的左、右两侧。

6.如权利要求1所述的载盘，其特征在于，该遮盖部设于该载槽的周缘。

7.如权利要求1所述的载盘，其特征在于，该载槽由一遮盖构件的一镂槽与一置纳构件的一置纳槽所形成。

8.如权利要求7所述的载盘，其特征在于，该遮盖构件位于上方而该置纳构件位于下方，该遮盖构件周缘环列布设数个镂槽，该置纳构件对应该镂槽的位置在该置纳构件周缘环列布设数个置纳槽，该镂槽具有较该置纳槽小的宽度，该镂槽的内缘可部分遮盖于该置纳槽的上方以形成该遮盖部。

9.一种电子元件量测方法，使用如权利要求1至8中任一权利要求所述的载盘，包括：一搬送步骤，该载盘以间歇性旋转流路搬送该载槽内的该待测元件至一量测区域；一量测步骤，该待测元件停留在该量测区域时，探针向上碰触该待测元件，并顶升该待测元件，使该待测元件受该遮盖部挡抵。

10.如权利要求9所述的电子元件量测方法，其特征在于，该量测步骤包括：由一镂空部显露未被该遮盖部遮盖的该待测元件顶部，以该遮盖部上方的光学量测元件来量测该待测元件的光学特性。

11.一种电子元件量测装置，包括：使用如权利要求9至10中任一权利要求所述的电子元件量测方法的装置。

12.如权利要求11所述的电子元件量测装置，其特征在于，该量测区域的该载盘的该遮盖部上方设有一透光片。