[发明专利]一种OLED显示面板及其制作方法

权利要求书

1.一种OLED显示面板的制作方法，其特征在于，包括：

步骤S10、提供一衬底基板，在所述衬底基板上形成薄膜晶体管层；

步骤S20、在所述薄膜晶体管层上形成阳极层，使用第一光罩，对阳极层实施第一光罩制程，以使所述阳极层形成至少两个所述阳极；

步骤S30、在所述阳极上制备阳极修饰层，

所述阳极修饰层为三维浮雕光栅结构，所述阳极修饰层通过双光束干涉激光系统制成；

步骤S40、在所述阳极修饰层上依次沉积第一公共层、发光层以及第二公共层；

步骤S50、在所述第二公共层上沉积阴极层；

其中，步骤S30包括：

S31、在所述阳极层上涂布偶氮苯类化合物溶液，以形成偶氮苯类化合物薄膜；

S32、利用激光照射所述偶氮苯类化合物薄膜，以形成具有所述三维浮雕光栅结构的所述阳极修饰层；

所述阳极修饰层材料为偶氮苯类化合物；

所述偶氮苯类化合物为偶氮苯类高分子化合物或偶氮苯类小分子化合物，所述偶氮苯类化合物包含有至少一种用于传输空穴的功能基团以及至少一种用于增强所述偶氮苯类化合物在有机溶剂中溶解性的功能基团。

2.根据权利要求1所述的OLED显示面板的制作方法，其特征在于，所述第一公共层包括空穴注入层和空穴传输层，所述第二公共层包括电子注入层和电子传输层。

3.一种OLED显示面板，其特征在于，包括：

薄膜晶体管层；

阳极层，形成于所述薄膜晶体管层上，所述阳极层用于提供吸收电子的空穴；以及

阳极修饰层，形成于所述阳极层上，

所述阳极修饰层为三维光栅结构，所述阳极修饰层通过双光束干涉激光系统制成；

第一公共层，形成于所述阳极修饰层上，所述第一公共层用于所述空穴的注入和传输；

发光层，形成于所述第一公共层上；

第二公共层，形成于所述第一公共层上，所述第二公共层用于所述电子的注入和传输；

阴极层，形成于所述第二公共层上，所述阴极层用于提供所述电子；

所述阳极修饰层材料为偶氮苯类化合物，所述偶氮苯类化合物为偶氮苯类高分子化合物或偶氮苯类小分子化合物；

所述偶氮苯类化合物包含有至少一种用于传输空穴的功能基团以及至少一种用于增强所述偶氮苯类化合物在有机溶剂中溶解性的功能基团。

4.根据权利要求3所述的OLED显示面板，其特征在于，所述第一公共层包括空穴注入层和空穴传输层，所述第二公共层包括电子注入层和电子传输层。