[发明专利]一种镀DLC膜的红外硫系玻璃镜片及其制备方法有效
| 申请号： | 201710850535.1 | 申请日： | 2017-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN107746187B | 公开（公告）日： | 2020-09-08 |
| 发明（设计）人： | 蔡明宗;李海军;王炜华 | 申请（专利权）人： | 湖北森浤光学有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/36 | 分类号： | C03C17/36 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人： | 林德强 |
| 地址： | 443300 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 dlc 红外 玻璃 镜片 及其 制备 方法 | ||
1.一种镀DLC膜的红外硫系玻璃镜片，其特征在于：红外硫系玻璃镜片的表面由内至外依次设置第一Ge膜层、第一YF3膜层、第二Ge膜层、第二YF3膜层、第三Ge膜层和DLC膜层；
所述第一Ge膜层的厚度为205～215nm，第一YF3膜层的厚度为310～330nm，第二Ge膜层的厚度为618～633nm，第二YF3膜层的厚度为1178～1930nm，第三Ge膜层的厚度为69～88nm，DLC膜层的厚度为300～460nm；
所述镀DLC膜的红外硫系玻璃镜片是通过以下步骤的制备方法制得：
1)镀制红外AR膜：在待镀的红外硫系玻璃镜片表面依次蒸镀第一Ge膜、第一YF3膜、第二Ge膜、第二YF3膜和第三Ge膜，得到镀AR膜的基片；
2)镀制DLC膜：将镀AR膜的基片置于沉积设备中，在真空条件下，通入无机气体清洗基片，再通入烷烃气体进行射频辉光放电，解离的烷烃气体在镀AR膜的基片表面沉积形成DLC膜层，制成镀DLC膜的红外硫系玻璃镜片；
所述步骤2)中，烷烃气体为C4H10。
2.权利要求1所述的一种镀DLC膜的红外硫系玻璃镜片的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：
1)镀制红外AR膜：在待镀的红外硫系玻璃镜片表面依次蒸镀第一Ge膜、第一YF3膜、第二Ge膜、第二YF3膜和第三Ge膜，得到镀AR膜的基片；
2)镀制DLC膜：将镀AR膜的基片置于沉积设备中，在真空条件下，通入无机气体清洗基片，再通入烷烃气体进行射频辉光放电，解离的烷烃气体在镀AR膜的基片表面沉积形成DLC膜层，制成镀DLC膜的红外硫系玻璃镜片；
所述步骤2)中，烷烃气体为C4H10。
3.根据权利要求2所述的一种镀DLC膜的红外硫系玻璃镜片的制备方法，其特征在于：步骤2)中，沉积设备为碳膜机。
4.根据权利要求2所述的一种镀DLC膜的红外硫系玻璃镜片的制备方法，其特征在于：步骤2)中，无机气体的通入量为20～40sccm。
5.根据权利要求4所述的一种镀DLC膜的红外硫系玻璃镜片的制备方法，其特征在于：步骤2)中，无机气体为氩气。
6.根据权利要求2所述的一种镀DLC膜的红外硫系玻璃镜片的制备方法，其特征在于：步骤2)中，烷烃气体的通入量为30～50sccm。
7.根据权利要求2所述的一种镀DLC膜的红外硫系玻璃镜片的制备方法，其特征在于：步骤2)中，DLC膜沉积的时间为300～600秒。
8.根据权利要求2所述的一种镀DLC膜的红外硫系玻璃镜片的制备方法，其特征在于：步骤2)中，通入无机气体前体系的气体压力小于3×10-3Pa，通入无机气体清洗时体系的气体压力为3～6Pa，通入烷烃气体沉积时体系的气体压力为8～20Pa。
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