[发明专利]一种镀DLC膜的红外硫系玻璃镜片及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201710850535.1 申请日: 2017-09-20
公开(公告)号: CN107746187B 公开(公告)日: 2020-09-08
发明(设计)人: 蔡明宗;李海军;王炜华 申请(专利权)人: 湖北森浤光学有限公司
主分类号: C03C17/36 分类号: C03C17/36
代理公司: 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 代理人: 林德强
地址: 443300 湖北*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 dlc 红外 玻璃 镜片 及其 制备 方法
【说明书】:

发明公开了一种镀DLC膜的红外硫系玻璃镜片及其制备方法。一种镀DLC膜的红外硫系玻璃镜片,其红外硫系玻璃镜片的表面由内至外依次设置第一Ge膜层、第一YF3膜层、第二Ge膜层、第二YF3膜层、第三Ge膜层和DLC膜层。同时也公开了这种镀DLC膜的红外硫系玻璃镜片的制备方法,包括以下步骤:1)镀制红外AR膜;2)镀制DLC膜。本发明DLC膜镀制方法采用分步骤进行阶梯式镀制法,通过分阶段进行镀制实现所需光学光谱规格要求8~12μm平均透过率Tave≥92%以上要求,改善了膜厚应力影响易产生膜脱以及膜断裂品质缺陷的问题,提高了红外硫系玻璃镜片的产品品质。

技术领域

本发明涉及一种镀DLC膜的红外硫系玻璃镜片及其制备方法。

背景技术

远红外玻璃是以Ge、As、Se、Sb为主要元素所形成材料玻璃(又称为硫系玻璃),由于其特殊的结构及组分在2~14μm之间具有良好的透过率、极低的折射率温度热系数和色散性、易制备等优点,因此硫系玻璃是一种在红外应用上很广的红外光学玻璃,已用于军工光学系统中、红外热像仪、民用车载夜视等相关领域。

在现实使用中,硫系玻璃镜头的外露镜片窗口片,在正使用中受到灰尘或风砂等外物与玻璃表面磨擦产生粗细不均划伤、划痕;直接影响到镜头的美观度及窗口片的强度,也会影响到红外镜片光学透过率降低。针对以上问题可通过镀制类金刚石膜超硬膜得到改善;如果红外镜片材质是Ge片材料或其它非红外硫系玻璃单芯片,可直接在玻璃表面加镀DLC(Diamond-like carbon,类金刚石)膜就可以增加玻璃表面的硬度起到保护镜片玻璃表面的作用。

对于红外镜片硫系玻璃材质镜片,硫系玻璃镜片在特质上与Ge材质片或其它单晶材质红外镜片特质不同。如使用现有技术方法直接镀制DLC膜,在硫系玻璃表面会产生以下多种影响红外镜片性能的不良缺缺陷:1)直接在红外硫系玻璃镜片表面镀制DLC膜得不到红外硫系玻璃镜片光学光谱规格要求8~12μm平均透过率光谱Tave≥92%以上的要求;2)红外硫系玻璃在光学薄膜成膜镀制中,随着DLC膜厚增加会受应力影响较大薄膜附着力差,依现有技术镀制膜层易产生膜层断裂品质不良。

现有镀制DLC技术不能对硫系玻璃直接实现表面镀制,直接镀制后达不到所需光学光谱透过率8~12μm平均透过率Tave≥92%以上要求,且膜厚应力影响易产生膜脱和膜断裂。所以,目前亟需研发一种解决上述问题的红外硫系玻璃镜片镀DLC膜技术,以改善产品的品质。

发明内容

本发明的目的在于提供一种镀DLC膜的红外硫系玻璃镜片及其制备方法。

本发明所采取的技术方案是:

一种镀DLC膜的红外硫系玻璃镜片,其红外硫系玻璃镜片的表面由内至外依次设置第一Ge膜层、第一YF3膜层、第二Ge膜层、第二YF3膜层、第三Ge膜层和DLC膜层。

第一Ge膜层的厚度为205~215nm,第一YF3膜层的厚度为310~330nm,第二Ge膜层的厚度为618~633nm,第二YF3膜层的厚度为1178~1930nm,第三Ge膜层的厚度为69~88nm,DLC膜层的厚度为300~460nm。

一种镀DLC膜的红外硫系玻璃镜片的制备方法,包括以下步骤:

1)镀制红外AR膜:在待镀的红外硫系玻璃镜片表面依次蒸镀第一Ge膜、第一YF3膜、第二Ge膜、第二YF3膜和第三Ge膜,得到镀AR膜的基片;

2)镀制DLC膜:将镀AR膜的基片置于沉积设备中,在真空条件下,通入无机气体清洗基片,再通入烷烃气体进行射频辉光电离,解离的烷烃气体在镀AR膜的基片表面沉积形成DLC膜层,制成镀DLC膜的红外硫系玻璃镜片。

制备方法步骤2)中,沉积设备为碳膜机。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于湖北森浤光学有限公司,未经湖北森浤光学有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710850535.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top