[发明专利]一种用于TFT‑LCD光刻胶高效清洗剂

说明书

技术领域

本发明涉及TFT-LCD技术领域，具体涉及一种用于TFT-LCD光刻胶高效清洗剂。

背景技术

在通常的TFT-LCD制造工艺中，通过在一些材料的表面上形成光刻胶的掩膜，曝光后进行图形转移，在得到需要的图形之后，进行下一道工序之前，需要剥去残留的光刻胶。在这个过程中要求完全除去不需要的光刻胶，同时不能腐蚀任何基材。改善去除效果较为常用的方法是采用延长浸泡时间、提高浸泡温度和采用更富有攻击性的溶液，但这常会造成TFT-LCD的腐蚀和微球的腐蚀，从而导致TFT-LCD良率的显著降低。

目前，光刻胶清洗液主要由极性有机溶剂、强碱和/或水等组成，通过将TFT-LCD浸入清洗液中或者利用清洗液冲洗TFT-LCD，去除TFT-LCD上的光刻胶腐蚀较高。由此可见，寻找更为有效抑制的金属腐蚀抑制剂，溶解更多光刻胶的溶剂体系该类光刻胶清洗剂努力改进的优先方向。

发明内容

本发明旨在提供了一种用于TFT-LCD光刻胶高效清洗剂。

本发明提供如下技术方案：

一种用于TFT-LCD光刻胶高效清洗剂，其是由以下质量百分比的原料组成：季铵氢氧化物7-18％、吡咯烷酮类溶剂5-14％、季戊四醇2-3％、醇胺9-12％、间苯二酚5-8％、表面活性剂1-3％以及有机溶剂65-70％。

所述季铵氢氧化物选自四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、甲基三乙基氢氧化铵、羟乙基三甲基氢氧化铵、十六烷基三甲基氢氧化铵和苄基三甲基氢氧化铵中的一种或多种。

所述吡咯烷酮类溶剂选自N-甲基吡咯烷酮、N-乙基吡咯烷酮、N-羟乙基吡咯烷酮和N-环己基吡咯烷酮中的一种或多种。

所述醇胺选自单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、正丙醇胺、异丙醇胺、2-(二乙氨基)乙醇、乙基二乙醇胺和二甘醇胺中的一种或几种。

所述表面活性剂为聚乙烯吡咯烷酮。

所述有机溶剂选自亚砜、砜、咪唑烷酮、吡咯烷酮、咪唑啉酮、酰胺和醇醚中的一种或多种。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：本发明选用合适的季铵氢氧化物/醇胺的比例有利于协调光刻胶去除能力和金属微球的防腐蚀；通过采用的吡咯烷酮类溶剂和季戊四醇的复合溶剂体系，提高了光刻胶的去除能力。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

实施例1一种用于TFT-LCD光刻胶高效清洗剂，其是由以下质量百分比的原料组成：季铵氢氧化物7％、吡咯烷酮类溶剂5％、季戊四醇2％、醇胺9％、间苯二酚5％、表面活性剂1％以及有机溶剂65％。

所述季铵氢氧化物选自四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、甲基三乙基氢氧化铵、羟乙基三甲基氢氧化铵、十六烷基三甲基氢氧化铵和苄基三甲基氢氧化铵中的一种或多种。

所述吡咯烷酮类溶剂选自N-甲基吡咯烷酮、N-乙基吡咯烷酮、N-羟乙基吡咯烷酮和N-环己基吡咯烷酮中的一种或多种。

所述醇胺选自单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、正丙醇胺、异丙醇胺、2-(二乙氨基)乙醇、乙基二乙醇胺和二甘醇胺中的一种或几种。

所述表面活性剂为聚乙烯吡咯烷酮。

所述有机溶剂选自亚砜、砜、咪唑烷酮、吡咯烷酮、咪唑啉酮、酰胺和醇醚中的一种或多种。

实施例2一种用于TFT-LCD光刻胶高效清洗剂，其是由以下质量百分比的原料组成：季铵氢氧化物18％、吡咯烷酮类溶剂14％、季戊四醇3％、醇胺12％、间苯二酚8％、表面活性剂3％以及有机溶剂70％。

所述季铵氢氧化物选自四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、甲基三乙基氢氧化铵、羟乙基三甲基氢氧化铵、十六烷基三甲基氢氧化铵和苄基三甲基氢氧化铵中的一种或多种。

所述吡咯烷酮类溶剂选自N-甲基吡咯烷酮、N-乙基吡咯烷酮、N-羟乙基吡咯烷酮和N-环己基吡咯烷酮中的一种或多种。

所述醇胺选自单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、正丙醇胺、异丙醇胺、2-(二乙氨基)乙醇、乙基二乙醇胺和二甘醇胺中的一种或几种。

所述表面活性剂为聚乙烯吡咯烷酮。

所述有机溶剂选自亚砜、砜、咪唑烷酮、吡咯烷酮、咪唑啉酮、酰胺和醇醚中的一种或多种。