[发明专利]有机发光二极管基板及其制造方法有效
申请号: | 201710852353.8 | 申请日: | 2017-09-20 |
公开(公告)号: | CN107611280B | 公开(公告)日: | 2020-04-28 |
发明(设计)人: | 吴海东;李彦松;杜小波 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
主分类号: | H01L51/52 | 分类号: | H01L51/52;H01L51/56 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 曲鹏;张京波 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 有机 发光二极管 及其 制造 方法 | ||
1.一种有机发光二极管基板,其特征在于,包括:
设置在基底上的像素定义层,以及设置在像素区域内的阳极、有机发光二极管OLED功能层和阴极,所述像素定义层包括依次叠设的第一像素定义层、辅助阴极和第二像素定义层,所述辅助阴极与所述阴极连接;所述像素区域是所述第一像素定义层限定的区域,所述阳极仅设置在像素区域内;所述阳极与所述辅助阴极同层设置且通过一次工艺形成。
2.根据权利要求1所述的基板,其特征在于,所述第一像素定义层的厚度为300~350nm,所述第一像素定义层边缘的坡度角和第二像素定义层边缘的坡度角均为85°~90°。
3.根据权利要求1所述的基板,其特征在于,所述阴极的厚度为6~10nm。
4.根据权利要求1~3任一所述的基板,其特征在于,所述辅助阴极包括依次叠设的厚度为5~20nm的第一透明导电层、厚度为130~170nm的金属层和厚度为5~20nm的第二透明导电层。
5.根据权利要求4所述的基板,其特征在于,所述OLED功能层包括厚度为dR的红色OLED功能层、厚度为dG的绿色OLED功能层、厚度为dB的蓝色OLED功能层,且:dBdP1-dA1-dA2-dA3-dY;dRdP1;dRdGdB;
其中,dP1为第一像素定义层图案的厚度,dA1为第一透明导电层的厚度,dA2为金属层的厚度,dA3为第二透明导电层的厚度,dY为阴极的厚度。
6.根据权利要求1~3任一所述的基板,其特征在于,所述辅助阴极包括厚度为160~170nm的透明导电层。
7.根据权利要求6所述的基板,其特征在于,所述OLED功能层包括厚度为dR的红色OLED功能层、厚度为dG的绿色OLED功能层、厚度为dB的蓝色OLED功能层,且:dBdP1-dZ-dY;dRdP1;dRdGdB;
其中,dP1为第一像素定义层图案的厚度,dZ为透明导电层的厚度,dY为阴极的厚度。
8.一种显示面板,其特征在于,包括权利要求1~7任一所述的有机发光二极管基板。
9.一种有机发光二极管基板的制造方法,其特征在于,包括:
在基底上形成第一像素定义层;
通过一次工艺,在所述第一像素定义层上形成辅助阴极,在所述第一像素定义层所限定的像素区域内形成阳极,所述阳极仅设置在像素区域内;
在所述辅助阴极上形成第二像素定义层;
在所述阳极上形成有机发光二极管OLED功能层和阴极,所述阴极与所述辅助阴极连接。
10.根据权利要求9所述的制造方法,其特征在于,所述在基底上形成第一像素定义层,包括:沉积一像素定义薄膜,对所述像素定义薄膜进行曝光、显影和刻蚀,形成第一像素定义层;所述第一像素定义层的厚度为300nm~350nm,第一像素定义层边缘的坡度角为85°~90°。
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