[发明专利]一种硅片处理设备及其药液槽、药液槽的排放方法

权利要求书

1.一种用于硅片处理设备的药液槽，包括槽体，一端连通槽体侧壁上溢流口的溢流管道，分别连通所述溢流管道另一端以及设置在槽体底部的排液口的第一排液管道，设置在第一排液管道上的排液阀，其特征在于，在槽体内距离槽底第一高度的位置处设置至少一根第二排液管道，所述第二排液管道位于槽体外的部分通过控制阀连通至第一排液管道。

2.如权利要求1所述的用于硅片处理设备的药液槽，其特征在于，所述第一高度为当所述硅片处理设备正常工作时，药液槽内剩余液体的体积对应的高度。

3.如权利要求1所述的用于硅片处理设备的药液槽，其特征在于，所述第一高度满足条件为：第一高度减去设备正常工作时药液槽还剩液体的体积对应的高度小于溢流口的高度减去液槽初始配液时液体的体积对应的高度。

4.如权利要求1至3任意一项所述的用于硅片处理设备的药液槽，其特征在于，所述第二排液管道的入口连接在槽体侧壁上。

5.如权利要求1至3任意一项所述的用于硅片处理设备的药液槽，其特征在于，所述第二排液管道从槽体底部伸入直至所述第一高度。

6.如权利要求1至3任意一项所述的用于硅片处理设备的药液槽，其特征在于，所述第二排液管道从槽体顶部伸入至所述第一高度，并且所述排液管道连接一排液动力装置。

7.采用上述任意一项权利要求所述的药液槽的硅片处理设备。

8.如权利要求7所述的硅片处理设备，其特征在于，所述硅片处理设备为清洗设备或湿法处理设备。

9.维持如权利要求1至6任意一项所述的药液槽内的液体浓度、温度、体积的排放方法，当药液槽配液完毕开始处理硅片后开启所述控制阀，或者在开始处理硅片后，每间隔一段时间开启所述控制阀一段时间。