[发明专利]封装器件结构和封装器件在审

专利信息
申请号: 201710858919.8 申请日: 2017-09-21
公开(公告)号: CN109545767A 公开(公告)日: 2019-03-29
发明(设计)人: 张乃千;杨琼;张永胜;潘宇;马浩;吴星星 申请(专利权)人: 苏州能讯高能半导体有限公司
主分类号: H01L23/49 分类号: H01L23/49
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 代理人: 孙辉
地址: 215000 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 第一电极 封装器件 引线段 基板 墙体 第二电极 电路设计需求 方向延伸 间隔设置 位置间隔 一端开口 容置腔 围设 相交
【说明书】:

发明提供一种封装器件结构和封装器件,该封装器件结构包括基板,围设于该基板上的墙体,墙体与基板形成一端开口的容置腔;间隔设置在墙体远离基板的一侧的两个第一电极层;与第一电极层相对的位置间隔设置的两个第二电极层;以及分别与两个第一电极层连接的第一引线以及分别与两个第二电极层连接的第二引线;其中,每个第一引线包括分别沿两个相交的不同方向延伸的第一引线段以及第二引线段,该第一引线段位于所述第一电极层上方并与该第一电极层接触;两个第一引线段的之间的中心间距小于或等于两个第二引线段之间的间距。本发明能够解决现有技术中引线间距过小的问题,并提高其适用性,满足不同的电路设计需求。

技术领域

本发明涉及微电子技术领域,具体而言,涉及一种封装器件结构和封装器件。

背景技术

随着目前集成电路的不断发展,其密集程度越来越大,但由于现有的封装器件结构中的引线间距之间没有足够的空间放置匹配元件导致电路设计受限,其中,若增加外壳尺寸来满足间距的要求,则会增加管壳的成本。与此同时,由于引线间距过小而引起的系统的记忆效应可能导致互调分量幅度增加或左右互调分量不对称,进而造成标准线性化技术(DPD)效率低下,因此,如何在不增加封装器件结构尺寸的前提下,增大引线间距已成为本领域技术人员的研究热点。

发明内容

有鉴于此,本发明提供了一种封装器件结构和封装器件,能够有效解决上述问题。

避免灌封胶外溢现象,保证封装的成品率。

本发明较佳实施例提供一种器件封装结构,包括:

基板;

围设于该基板上的墙体,所述墙体与所述基板形成一端开口的容置腔;

间隔设置在所述墙体远离所述基板的一侧的两个第一电极层;

与所述第一电极层相对的位置间隔设置的两个第二电极层;以及

分别与两个所述第一电极层连接的第一引线以及分别与两个所述第二电极层连接的第二引线;其中:

每个所述第一引线包括分别沿两个相交的不同方向延伸的第一引线段以及第二引线段,该第一引线段位于所述第一电极层上方并与该第一电极层接触;其中,两个所述第一引线段之间的中心间距小于或等于两个所述第二引线段之间的间距。

在本发明较佳实施例的选择中,每个所述第二引线包括分别沿两个相交的不同方向延伸的第三引线段以及第四引线段,该第三引线段位于所述第二电极层上方并与该第二电极层接触;其中,两个所述第三引线段之间的中心间距小于或等于两个所述第四引线段之间的间距。

在本发明较佳实施例的选择中,所述第二引线段垂直于所述第一引线段,使得所述第一引线段和所述第二引线段呈“T”型结构,所述第四引线段垂直于所述第三引线段,使得所述第三引线段和所述第四引线段呈“T”型结构。

在本发明较佳实施例的选择中,所述第二引线段垂直于所述第一引线段,使得所述第一引线段和所述第二引线段呈“L”型结构,所述第四引线段垂直于所述第三引线段,使得所述第三引线段和所述第四引线段呈“L”型结构。

在本发明较佳实施例的选择中,两个所述第二引线段之间的间距及/或两个所述第四引线段之间的间距为5.2mm-10mm。

在本发明较佳实施例的选择中,所述第二引线段的自度范围为第一引线段长度的20%-90%;所述第四引线段的宽度范围为第三引线段长度的20%-90%。

在本发明较佳实施例的选择中,所述墙体为陶瓷墙体。

在本发明较佳实施例的选择中,所述第二引线段或所述第四引线段的自由端设置有倒角。

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