[发明专利]一种光罩的校正方法

权利要求书

1.一种光罩的校正方法，应用于一器件结构，所述器件结构包括多个相互间隔的有源区以及围绕所述有源区的离子注入层；其特征在于，存在相邻的两个所述有源区之间的间距大于一预设距离；所述校正方法包括：

步骤S1，提供一原始版图；

步骤S2，对所述原始版图进行基于规则的邻近光学效应校正，以得到对应所述离子注入层的一初始目标图形，以及对应所述有源区的有源区图形；

步骤S3，对间距大于所述预设距离的相邻的所述有源区图形进行切角处理；

所述有源区图形为矩形，所述步骤S3中，所述切角操作具体为：采用切角图形将间距大于所述预设距离的相邻的所述有源区图形的相邻的边上的四个角进行切割；

步骤S4，将进行所述切角处理后的所述有源区图形之间的所述初始目标图形的边向靠近所述有源区图形的方向进行平移，得到一最终目标图形；

步骤S5，对所述最终目标图形进行基于模型的邻近光学效应校正，以得到一光罩。

2.根据权利要求1所述的校正方法，其特征在于，所述切角图形为具有一个倒角的矩形。

3.根据权利要求1所述的校正方法，其特征在于，所述切角图形为等腰直角三角形。

4.根据权利要求1所述的校正方法，其特征在于，所述切角图形为扇形。

5.根据权利要求1所述的校正方法，其特征在于，所述步骤S4中，所述初始目标图形的边向靠近所述有源区图形的方向侧平移后形成一凹口，平移后的边为所述凹口的底边。

6.根据权利要求5所述的校正方法，其特征在于，所述凹口在所述底边的两侧形成有两个直角。