[发明专利]基板处理装置和处理液供给方法

权利要求书

1.一种基板处理装置，其特征在于，具备：

处理液供给机构，其将硫酸和过氧化氢水混合来生成硫酸过氧化氢混合物液，并从喷出部向基板供给所生成的硫酸过氧化氢混合物液；

温度调整部，其对从所述处理液供给机构向所述基板供给时的所述硫酸过氧化氢混合物液的温度进行调整；

获取部，其获取所述基板的表面上的所述硫酸过氧化氢混合物液的温度信息；以及

控制部，其根据由所述获取部获取到的所述温度信息来设定所述温度调整部中的调整量，

其中，所述温度调整部基于由所述控制部设定的调整量来对从所述处理液供给机构向所述基板供给时的所述硫酸过氧化氢混合物液的温度进行调整，

所述获取部为测量基板上的硫酸过氧化氢混合物液的温度分布的温度传感器，

所述控制部基于根据在使所述喷出部的所述硫酸过氧化氢混合物液的喷出位置在所述基板的中心与周缘之间反复移动的情况下获取到的温度信息求出的温度分布特性，来计算所述基板的整个表面的硫酸过氧化氢混合物液的温度值的平均值，并根据计算出的所述平均值与期望的硫酸过氧化氢混合物液的温度之间的差来决定所述温度调整部的调整量。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述处理液供给机构具有：

第一路径，其供硫酸流通；

第二路径，其供过氧化氢水流通；

混合部，其将来自所述第一路径的硫酸和来自所述第二路径的过氧化氢水以规定的混合比混合来生成硫酸过氧化氢混合物液；以及

喷出部，其对基板喷出由所述混合部生成的硫酸过氧化氢混合物液，

所述温度调整部设置于所述第一路径以对流通的硫酸的温度进行调整。

3.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述处理液供给机构具有：

第一流路，其供硫酸流通；

第二流路，其供过氧化氢水流通；

混合部，其将来自所述第一流路的硫酸和来自所述第二流路的过氧化氢水以规定的混合比混合来生成硫酸过氧化氢混合物液；以及

喷出部，其对基板喷出由所述混合部生成的硫酸过氧化氢混合物液，

所述温度调整部为所述混合部，根据由所述获取部获取到的硫酸过氧化氢混合物液的温度信息来变更所述混合比，由此调整硫酸过氧化氢混合物液的温度。

4.根据权利要求1至3中的任一项所述的基板处理装置，其特征在于，

所述获取部在正在向一张基板供给硫酸过氧化氢混合物液时获取所述温度信息，

所述控制部在正在向所述一张基板供给硫酸过氧化氢混合物液时对所述温度调整部中的调整量进行控制。

5.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述处理液供给机构具有：

贮存部，其贮存硫酸；

循环路径，其使所述贮存部的硫酸循环；

分支路径，其从所述循环路径分支出来，使硫酸流通；

混合部，其将过氧化氢水和在所述分支路径中流通的硫酸以规定的混合比混合来生成硫酸过氧化氢混合物液；以及

喷出部，其对所述基板喷出由所述混合部生成的硫酸过氧化氢混合物液，

所述温度调整部对在所述循环路径中流通的硫酸的温度进行调整。

6.一种处理液供给方法，用于将硫酸和过氧化氢水混合来生成硫酸过氧化氢混合物液，从喷出部向基板供给生成的所述硫酸过氧化氢混合物液，该处理液供给方法的特征在于，包括以下工序：

获取工序，获取部获取基板的表面上的所述硫酸过氧化氢混合物液的温度信息；

设定工序，控制部根据在所述获取工序中获取到的硫酸过氧化氢混合物液的温度信息来设定向所述基板供给时的硫酸过氧化氢混合物液的温度的调整量；以及

调整工序，温度调整部基于在所述设定工序中设定的调整量来调整向所述基板供给时的硫酸过氧化氢混合物液的温度，

所述获取部为测量基板上的硫酸过氧化氢混合物液的温度分布的温度传感器，

所述控制部基于根据在使所述喷出部的所述硫酸过氧化氢混合物液的喷出位置在所述基板的中心与周缘之间反复移动的情况下获取到的温度信息求出的温度分布特性，来计算所述基板的整个表面的硫酸过氧化氢混合物液的温度值的平均值，并根据计算出的所述平均值与期望的硫酸过氧化氢混合物液的温度之间的差来决定所述温度调整部的调整量。