[发明专利]金属焊点表面的刻蚀方法在审
申请号: | 201710887932.6 | 申请日: | 2017-09-27 |
公开(公告)号: | CN109559995A | 公开(公告)日: | 2019-04-02 |
发明(设计)人: | 张涛杰 | 申请(专利权)人: | 东莞新科技术研究开发有限公司 |
主分类号: | H01L21/48 | 分类号: | H01L21/48 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝传鑫 |
地址: | 523087 *** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 金属焊点 刻蚀 凹凸部 离子束 附着力 焊料 光刻保护层 调整处理 焊点表面 焊接性能 横向距离 刻蚀气体 粗糙度 高度差 预清洗 低点 返工 | ||
本发明的金属焊点表面的刻蚀方法,包括:在金属焊点表面上形成光刻保护层;将该金属焊点表面进行预清洗;将该金属焊点表面置于处理室并调整处理室的真空度;向处理室通入刻蚀气体并形成离子束,所述离子束在金属焊点表面上形成凹凸部,所述凹凸部的高点和低点的纵向高度差为30‑50A,横向距离为0.2‑3μm。该刻蚀方法能提高焊点表面的粗糙度,从而提高焊料的附着力,减少返工率,进而提高焊接性能。
技术领域
本发明涉及半导体制造领域,尤其涉及一种金属焊点表面的刻蚀方法。
背景技术
半导体制造技术领域中,焊接工序必不可少。而金属焊点作为焊接表面的焊料的选择也是有多种,常见的是锡球、金球。选择金焊点的原因在于金的导电性能好,耐腐蚀强,性能稳定。然而在焊接的时候,由于金的质地偏软,经常由于其表面过于光滑而引起的焊接表面与焊点之间接触不良,造成工序中的返工率非常高,从而无法提高生产率,增加了成本。
因此亟待提供一种金属焊点表面的刻蚀方法以克服以上缺陷。
发明内容
本发明的目的在于提供一种金属焊点表面的刻蚀方法,其能提高焊点表面的粗糙度,从而提高焊料的附着力,减少返工率,进而提高焊接性能。
为实现上述目的,本发明的金属焊点表面的刻蚀方法,包括以下步骤:
(1)在金属焊点表面上形成光刻保护层;
(2)将该金属焊点表面进行预清洗;
(3)将该金属焊点表面置于处理室并调整处理室的真空度;
(4)向处理室通入刻蚀气体并形成离子束,所述离子束在金属焊点表面上形成凹凸部,所述凹凸部的高点和低点的纵向高度差为30-50A,横向距离为0.2-3μm。
与现有技术相比,通过刻蚀的方法在焊点表面形成适当的凹凸部,在有效保持平整度的状况下,焊点表面的粗糙度被适当增加,从而焊料在焊接表面上的附着力被提高,从而减少返工率,提高焊接性能。
较佳地,所述步骤(4)中,所述离子束的流动速度为10-30sccm,离子束能量为300-500eV,离子束电流为250-350mA,离子束入射角为50-70度,蚀刻时间为60-100秒。
较佳地,所述步骤(4)中,所述刻蚀气体为惰性气体与碳氢化合物气体的混合气体。
较佳地,所述惰性气体选自氩气、氖气、氪气、氙气中的一种或多种。
较佳地,所述碳氢化合物气体选自甲烷、乙烯、乙炔或苯中的一种或多种。
较佳地,所述惰性气体和所述碳氢化合物气体的比例为3:1-6:1。
较佳地,所述步骤(1)中采用化学气相沉积法、离子束沉积法或滤波阴极电弧法形成所述光刻保护层,所述光刻胶保护层的厚度为1-20μm。
较佳地,所述步骤(2)中通过通入惰性气体而清除金属焊点表面的污染物。
较佳地,所述步骤(3)中为所述处理室的真空度为1.0-2.5Pa。
较佳地,所述金属焊点表面为金焊点表面。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明的金属焊点表面的刻蚀方法作进一步说明,但不因此限制本发明。本发明的半导体的金属焊点表面的刻蚀方法,其能提高焊点表面的粗糙度,从而提高焊料的附着力,减少返工率,进而提高焊接性能。
在本发明的金属焊点表面的刻蚀方法的一个实施例中,该方法包括以下步骤:
保护:在金属焊点表面上形成光刻保护层;
预清洗:将该金属焊点表面进行预清洗;
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造