[发明专利]成膜装置有效
| 申请号： | 201710891266.3 | 申请日： | 2017-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN107893211B | 公开（公告）日： | 2019-11-19 |
| 发明（设计）人： | 久保纯也;今村聪;小川庆 | 申请（专利权）人： | 株式会社爱发科 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/54 |
| 代理公司： | 11444 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 龚敏;王刚<国际申请>=<国际公布>=< |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 装置 | ||
1.一种成膜装置，其特征在于，
所述成膜装置具备：
真空槽；
成膜源，其设置在所述真空槽内；
支撑架，其设置在所述真空槽内，与所述成膜源相对并能够支撑工件，并且能够围绕第一轴旋转；以及
第一遮蔽机构，其以能够围绕与所述第一轴交叉的第二轴旋转的方式设置在所述成膜源和所述支撑架之间，并包括第一遮蔽板，从所述第一轴方向观察时，所述第一遮蔽板在第一旋转位置具有第一面积，所述第一遮蔽板在第二旋转位置具有与所述第一面积不同的第二面积。
2.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，
所述第一遮蔽板具有宽度沿所述第二轴变化的平面形状。
3.根据权利要求1或2所述的成膜装置，其特征在于，
所述第一遮蔽机构还具有以能够围绕所述第二轴旋转的方式设置的第二遮蔽板，
所述第二遮蔽板以相对于所述第一遮蔽板交叉的方式配置，
所述第二遮蔽板的形状与所述第一遮蔽板的形状不同。
4.根据权利要求3所述的成膜装置，其特征在于，
所述第二遮蔽板具有宽度沿所述第二轴变化的平面形状。
5.根据权利要求1或2所述的成膜装置，其特征在于，
所述成膜装置还具备第二遮蔽机构，
所述第二遮蔽机构具有第二遮蔽板，所述第二遮蔽板以能够围绕所述第二轴或与所述第二轴交叉的第三轴旋转的方式设置在所述成膜源和所述支撑架之间，
从所述第一轴方向观察时，所述第二遮蔽板在第三旋转位置具有第三面积，所述第二遮蔽板在第四旋转位置具有与所述第三面积不同的第四面积。
6.根据权利要求5所述的成膜装置，其特征在于，
所述第二遮蔽板具有宽度沿所述第二轴或所述第三轴变化的平面形状。
7.根据权利要求5所述的成膜装置，其特征在于，
所述第二遮蔽板的形状与所述第一遮蔽板的形状不同。
8.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，
所述成膜源具有多个蒸发源。
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