[发明专利]彩膜基板及其制造方法、显示面板

权利要求书

1.一种彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：

在衬底基板上形成黑矩阵；

采用热熔性材料在所述黑矩阵所在区域内形成屏蔽膜层，所述屏蔽膜层包括多个屏蔽挡墙；

在所述屏蔽挡墙限定出的区域内形成彩色滤光溶液，其中，所述彩色滤光溶液中不同颜色的溶液被所述多个屏蔽挡墙隔挡，所述屏蔽膜层的厚度大于或等于制造预设厚度的彩色滤光层时所需的彩色滤光溶液的高度；

采用第一温度对所述彩色滤光溶液进行烘烤处理，以得到彩色滤光层，所述第一温度低于所述热熔性材料的熔点，采用第二温度对所述屏蔽膜层进行烘烤处理，使得所述多个屏蔽挡墙远离所述衬底基板的一端受热熔化，直至融化后的多个屏蔽挡墙对应的所述热熔性材料在所述彩色滤光层远离所述衬底基板的表面上形成为一个整体，停止烘烤，得到屏蔽层和熔融层，所述第二温度高于所述热熔性材料的熔点，所述屏蔽层包括多个目标屏蔽挡墙，所述熔融层包括多个熔融部；

其中，所述多个屏蔽挡墙远离所述衬底基板的一端受热熔化并凝固后，在所述彩色滤光层远离所述衬底基板的表面上形成所述多个熔融部，所述多个屏蔽挡墙的其他部分形成所述多个目标屏蔽挡墙。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影限定出阵列排布的多个像素区域，所述多个目标屏蔽挡墙在所述衬底基板上的正投影为多个沿第一方向排布的条状投影，每两个条状投影之间的间隙区域覆盖多个沿第二方向排布的所述像素区域，且每个间隙区域中设置有一个彩色滤光片，所述第一方向和所述第二方向交叉。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影限定出阵列排布的多个像素区域，所述多个目标屏蔽挡墙在所述衬底基板上的正投影为网状投影，所述网状投影包括阵列排布的多个开口区域，每个开口区域覆盖一个所述像素区域，且每个开口区域中设置有一个彩色滤光片。

4.一种彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板包括：

设置在衬底基板上的黑矩阵；

设置有所述黑矩阵的所述衬底基板上设置有依次叠加的屏蔽层、彩色滤光层和熔融层，所述彩色滤光层包括多个彩色滤光片，所述屏蔽层包括多个目标屏蔽挡墙，所述熔融层包括多个熔融部；

其中，所述多个熔融部为多个屏蔽挡墙远离所述衬底基板的一端受热熔化并凝固后，在所述彩色滤光层远离所述衬底基板的表面上的形成的，所述多个屏蔽挡墙属于采用热熔性材料在所述黑矩阵所在区域内形成的屏蔽膜层，所述多个目标屏蔽挡墙是所述多个屏蔽挡墙的其他部分形成的，所述彩色滤光层中不同颜色的彩色滤光片被所述多个目标屏蔽挡墙隔挡；

所述屏蔽膜层的厚度大于或等于制造预设厚度的彩色滤光层时所需的彩色滤光溶液的高度，采用第一温度对彩色滤光溶液进行烘烤处理，以得到所述彩色滤光层，所述第一温度低于所述热熔性材料的熔点，采用第二温度对所述屏蔽膜层进行烘烤处理，使得所述多个屏蔽挡墙远离所述衬底基板的一端受热熔化，直至融化后的多个屏蔽挡墙对应的所述热熔性材料在所述彩色滤光层远离所述衬底基板的表面上形成为一个整体，停止烘烤，所述第二温度高于所述热熔性材料的熔点。

5.根据权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影限定出阵列排布的多个像素区域，所述多个目标屏蔽挡墙在所述衬底基板上的正投影为多个沿第一方向排布的条状投影，每两个条状投影之间的间隙区域覆盖多个沿第二方向排布的所述像素区域，且每个间隙区域中设置有一个彩色滤光片，所述第一方向和所述第二方向交叉；

或者，所述多个目标屏蔽挡墙在所述衬底基板上的正投影为网状投影，所述网状投影包括阵列排布的多个开口区域，每个开口区域覆盖一个所述像素区域，且每个开口区域中设置有一个彩色滤光片。

6.根据权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述熔融层为一体结构，所述熔融层远离所述衬底基板的表面与所述衬底基板的表面平行。

7.根据权利要求4至6任一所述的彩膜基板，其特征在于，

所述热熔性材料为透明的材料。

8.一种显示面板，其特征在于，包括：权利要求4至7任一所述的彩膜基板。