[发明专利]掩膜装置、蒸镀设备及蒸镀方法

说明书

技术领域

本申请涉及OLED制造技术领域，尤其涉及一种掩膜装置、蒸镀设备及蒸镀方法。

背景技术

基于OLED(Organic light emitting diodes，有机发光二极管)的显示技术在近几年得到了极大的关注，且在产品化方面有了重大突破。由于该显示技术涉及到有机膜层的制备，因此，真空蒸镀工艺被引入生产制程。蒸镀制程中，蒸镀材料被加热到一定温度后蒸发并沉积至玻璃基板上。

现有技术中，通常利用掩膜装置中的掩膜板来遮挡玻璃基板上特定位置的蒸镀材料以生成具有设计图案的薄膜结构。然而，现有技术中为了减小掩膜板因重力产生的重垂，除了采用支撑掩膜进行支撑外，还需要使用较大的拉力将掩膜绷紧；这导致掩膜板出现结构失稳并表现为褶皱，进而在后续的蒸镀过程中出现混色现象，严重降低了蒸镀段的良率。

发明内容

本申请提供了一种掩膜装置、蒸镀设备及蒸镀方法，能够降低分立掩膜出现褶皱的风险。

本申请提供了一种掩膜装置，包括框架，所述框架包括：

外框架；以及

内框架，所述内框架设置于所述外框架的内部；

其中，所述外框架与所述内框架为一体成型结构。

本申请的第二方面提供了一种蒸镀设备，该蒸镀设备包含上述任一项所述的掩膜装置，包括：

阵列基板，用于接受蒸镀；

以及蒸发源。

本申请的第三方面提供了一种蒸镀方法，利用上述所述的蒸镀设备进行蒸镀，包括以下步骤：

提供框架，所述框架包括一体成型的内框架和外框架，所述框架包括相对的第一侧面和第二侧面；

提供掩膜板，将所述掩膜板对位并固定于所述框架的所述第一侧面；

提供阵列基板，所述阵列基板设置于所述掩膜板远离所述框架的一侧；

提供蒸发源，所述蒸发源设置于所述框架远离所述阵列基板的一侧；

加热所述蒸发源，对所述阵列基板进行蒸镀。

本申请提供的技术方案可以达到以下有益效果：

本申请提供了一种掩膜装置，包括外框架和内框架，其中，内框架与外框架一体成型，这样设置后，内框架与外框架的稳定性提升，其在自身重力作用下的重垂量减小；将掩膜板张网在该掩膜装置上时，掩膜框架和掩膜板因重力产生的重垂量减小，向掩膜板施加的向两侧的拉力可以适当减小，从而降低掩膜板出现褶皱的风险。

应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性的，并不能限制本申请。

附图说明

图1为现有技术中掩膜装置的示意图；

图2至图4为现有技术的掩膜装置中，分立掩膜上形成不同形态的褶皱的示意图；

图5为本申请实施例提供的掩膜装置中，框架为一体成型结构的示意图；

图6为本申请实施例提供的掩膜装置中，框架为一体成型结构的一种实施例的示意图；

图7为本申请实施例提供的掩膜装置中，框架为一体成型结构的另一种实施例的示意图；

图8为本申请实施例提供的掩膜装置中，框架为分体式结构的一种实施例的示意图；

图9为本申请实施例提供的掩膜装置中，框架为分体式结构的另一种实施例的示意图；

图10为本申请实施例提供的掩膜装置中，框架为分体式结构的又一种实施例的示意图；

图11为本申请实施例提供的蒸镀设备中，部分结构的示意图；

图12为本申请实施例提供的蒸镀设备中，内框架与显示面板保持距离至少为x的示意图；

图13为本申请实施例提供的蒸镀方法的流程图。

附图标记：

图1-4中：

1’-掩膜装置；

11’-掩膜框架；

12’-分立掩膜；

121’-褶皱；

13’-支撑掩膜；

14’-遮挡掩膜；

15’-侧翼掩膜；

16’-中心掩膜；

图5-13中：

100-掩膜装置；

102-框架；

1021-外框架；

1022-内框架；

10221-第一支撑杆；

10221a-第一凹槽；

10222-第二支撑杆；

10222a-第二凹槽；

1023-第一侧面。