[发明专利]一种可用于深紫外极弱光探测高纯纳米结构ZnGa2O4的制备方法有效
申请号: | 201710913178.9 | 申请日: | 2017-09-30 |
公开(公告)号: | CN107758726B | 公开(公告)日: | 2019-10-18 |
发明(设计)人: | 邹友生;刘佳欣;曾海波;王沙龙;刘舒婷 | 申请(专利权)人: | 南京理工大学 |
主分类号: | C01G15/00 | 分类号: | C01G15/00;B82Y40/00;H01L31/032 |
代理公司: | 南京理工大学专利中心 32203 | 代理人: | 马鲁晋 |
地址: | 210094 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 深紫 弱光 探测 高纯 纳米 结构 znga2o4 制备 方法 | ||
1.一种可用于深紫外极弱光探测高纯纳米结构ZnGa2O4的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
步骤1、向反应容器中加入去离子水溶液,将镓源靶材置于去离子水中,采用磁力搅拌器始终保持去离子水均匀搅拌;所述镓源靶材为纯度大于99.99%高纯氧化镓陶瓷靶;
步骤2、调节激光器的脉冲激光光束的光路,使激光光束聚焦在去离子水中液面与靶材交界处,选取适当的激光波长、频率及能量,开启脉冲激光,对镓源靶材进行烧蚀;
步骤3、更换镓源靶材为锌源靶材,使用激光器在原溶液中继续烧蚀锌源靶;
步骤4、取出锌源靶材,调节胶体溶液pH使溶液呈碱性,获得前驱体溶液;
步骤5、将前驱体溶液转移至反应釜中并放入真空鼓风干燥箱内,设定热溶剂反应温度与时间,开始反应;
步骤6、反应结束后,待反应体系随炉冷却至室温;
步骤7、去除反应釜内衬中上层清液,将反应釜底部产物用去离子水与乙醇清洗离心,得到沉淀,所述沉淀即为所述的高纯纳米结构ZnGa2O4。
2.根据权利要求1所述的一种可用于深紫外极弱光探测高纯纳米结构ZnGa2O4的制备方法,其特征在于步骤2中激光器为Nd:YAG固体激光器,脉冲频率为10Hz,激光波长为1064nm,激光能量为70-80mJ。
3.根据权利要求1所述的一种可用于深紫外极弱光探测高纯纳米结构ZnGa2O4的制备方法,其特征在于步骤3中锌源靶材为纯度大于99.995%高纯金属锌靶,氧化镓陶瓷靶与锌靶烧蚀时间比为4:1~3:1。
4.根据权利要求1所述的一种可用于深紫外极弱光探测高纯纳米结构ZnGa2O4的制备方法,其特征在于步骤4中pH调节剂为氨水或冰醋酸和氨水的混合物,所述氨水与溶液体积比为1:15~1:30,氨水采用浓氨水,其浓度为25~28%;冰醋酸与溶液体积比为0~1:300。
5.根据权利要求1所述的一种可用于深紫外极弱光探测高纯纳米结构ZnGa2O4的制备方法,其特征在于步骤5中设定的温度为200~240℃,保温时间为1~15h。
6.根据权利要求1所述的一种可用于深紫外极弱光探测高纯纳米结构ZnGa2O4的制备方法,其特征在于,步骤7中离心转速为8000~9000r/min,离心时间为1~2min,清洗离心次数为3~6次。
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