[发明专利]QDCF、其加工方法及应用

权利要求书

1.一种QDCF，其特征在于，包括基板本体以及设置在基板本体上的像素层和黑矩阵；其中：

所述黑矩阵由黑矩阵组合物制成，所述黑矩阵组合物包括以下重量配比的组分：

所述成膜树脂包括苯乙烯共聚物，所述苯乙烯共聚物的分子量为5000-50000。

2.如权利要求1所述的QDCF，其特征在于，所述成膜树脂中，基于所述成膜树脂的总重量，以所述苯乙烯共聚物的重量计，所述苯乙烯共聚物的重量分数为47-60wt％。

3.如权利要求1所述的QDCF，其特征在于，所述苯乙烯共聚物选自苯乙烯与马来酸半酯的共聚物、苯乙烯与2-(4-乙烯基苄基)丙二酸半酯的共聚物、苯乙烯与4-(2-羟基六氟异丙烯)-苯乙烯的共聚物、聚-乙酰氧苯乙烯与苯乙烯衍生物的共聚物中的一种或几种。

4.如权利要求1或3所述的QDCF，其特征在于，所述苯乙烯共聚物选自苯乙烯与马来酸半酯的共聚物、4-(2-羟基六氟异丙烯)-苯乙烯与苯乙烯的共聚物的一种或两种。

5.如权利要求1所述的QDCF，其特征在于，所述表面活性剂包括聚醚型超分散剂、聚酯型超分散剂、聚丙烯酸酯型超分散剂或聚烯烃型超分散剂。

6.如权利要求1所述的QDCF，其特征在于，所述黑矩阵的厚度为6-8μm。

7.一种QDCF加工方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

将黑矩阵组合物涂覆于基板本体上，干燥，形成黑矩阵薄膜；

通过预定的图形掩膜，对所述黑矩阵薄膜进行曝光，曝光量为100mJ/cm²-120mJ/cm²；

通过显影法除去被曝光区域，形成黑矩阵；

涂覆发光量子点溶液，干燥，形成像素层。

8.一种显示屏，其特征在于，所述显示屏包括QDCF，所述QDCF如权利要求1-6任意一项中所述的QDCF。

9.一种黑矩阵组合物，其特征在于，所述黑矩阵组合物包括以下重量配比的组分：

其中：

所述成膜树脂包括苯乙烯共聚物，所述苯乙烯共聚物的分子量为5000-50000。

10.一种黑矩阵组合物的制备方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

混合光敏剂、表面活性剂、成膜树脂和溶剂，形成分散体系；

将黑色颜料加入到所述分散体系中，混合，制得用于QDCF基板厚层黑矩阵的组合物；其中，

所述混合光敏剂、表面活性剂、成膜树脂、溶剂和黑色颜料分别的组分及其重量份数配比如权利要求9中所述。