[发明专利]利用覆着物传感器进行的清洁监控

权利要求书

1.用于监控流程设施、例如食品设施的卫生状态并且用于监控和控制流程设施的清洁流程的系统，所述系统包括：

用于测量在所述流程设施(304)的部分上的覆着物(311、309)，尤其是针对覆着物层厚进行测量的至少两个覆着物传感器，其中，所述至少两个覆着物传感器具有不同的测量范围(105、106)。

2.根据权利要求1所述的系统，其中，至少一个覆着物传感器是电容式覆着物传感器，并且至少一个覆着物传感器是超声波覆着物传感器，并且/或者

其中，作为替选或附加，至少一个覆着物传感器是光学覆着物传感器或热覆着物传感器或具有传导测量的覆着物传感器或具有荧光测量的覆着物传感器或具有吸收测量的覆着物传感器。

3.根据上述权利要求中任一项所述的系统，其中，所述覆着物传感器的测量范围(205、206)部分重叠。

4.根据上述权利要求中任一项所述的系统，其中，至少一个覆着物传感器的测量范围(106)包括接近或等于零的覆着物层厚，并且/或者至少一个覆着物传感器的测量范围(105)包括具有最大能容许的覆着物层厚的覆着物层厚。

5.根据上述权利要求中任一项所述的系统，其中，作为替选或附加，至少一个覆着物传感器被配置成用于测量流过待检查的部位的介质(308)的物理特性，例如被配置成用于测量流过待检查的部位的介质(308)的导电性。

6.根据上述权利要求中任一项所述的系统，其中，至少一个覆着物传感器安设在难以清洁的部位，例如热交换器的高温区域、预变性阶段、装填设备的环形灌装器或中央灌装器、填充阀、缓冲罐、死点部位、管件扩宽部、侧凹部、密封件到材料的过渡部上，并且/或者其中，至少一个覆着物传感器安设在与所述流程设施、例如食品设施的其他部位相比具有增强的覆着物形成的部位上。

7.根据上述权利要求中任一项所述的系统，其中，至少一个覆着物传感器是能加热的。

8.用于监控流程设施、例如食品设施的卫生状态并且用于监控和控制流程设施的清洁流程的方法，所述方法包括：

通过在生产期间借助至少一个覆着物传感器监控在所述流程设施的至少一个部分上的覆着物形成来监控生产中的卫生状态，所述至少一个覆着物传感器的测量范围(105)包括具有预定的、尤其是最大能容许的覆着物层厚(108)的覆着物层厚，

在通过所述至少一个覆着物传感器确认覆着物层厚超过所述预定的覆着物层厚(108)时，导入所述流程设施的清洁流程，

通过至少一个另外的覆着物传感器监控和/或结束已导入的清洁流程，所述至少一个另外的覆着物传感器的测量范围与第一覆着物传感器的测量范围不同，尤其是所述至少一个另外的覆着物传感器的测量范围包括接近或等于零的覆着物层厚。

9.根据前一权利要求所述的方法，其中，在生产期间首先通过其下测量范围包括接近或等于零的覆着物层厚的覆着物传感器进行对所述流程设施的至少一个部分上的覆着物形成的监控，并且其中，只有在达到具有接近或等于零的覆着物层厚的下测量范围的覆着物传感器的测量范围的上端时，才将对生产中卫生状态的监控切换到其测量范围(105)包括具有预定的最大能容许的覆着物层厚的覆着物层厚的覆着物传感器上。

10.根据上述方法权利要求中任一项所述的方法，其中，首先通过其下测量范围包括具有预定的最大能容许的覆着物层厚的覆着物层厚的覆着物传感器进行对已导入的清洁流程的监控，并且其中，只有在达到包括针对具有预定的最大能容许的覆着物层厚(108)的覆着物层厚的测量范围(105)的覆着物传感器的测量范围的下端时，才将对已导入的清洁流程的监控切换到其下测量范围包括接近或等于零的覆着物层厚的覆着物传感器上。

11.根据上述方法权利要求中任一项所述的方法，其中，对已导入的清洁流程的监控附加地包括对清洁介质的冲洗、例如用水进行冲洗的监控，其中，借助如下传感器进行对冲洗的监控，所述传感器被配置成用于测量流过待清洁的部位的介质(308)的物理特性，例如被配置成用于测量流过待清洁的部位的介质(308)的导电性。