[发明专利]利用覆着物传感器进行的清洁监控

说明书

技术领域

本发明涉及在专利权利要求1的前序部分中所说明类型的系统、在专利权利要求8的前序部分中所说明类型的方法、在权利要求12的前序部分中所说明类型的传感器、在专利权利要求13的前序部分中所说明类型的方法以及在专利权利要求15的前序部分中所说明类型的方法。

背景技术

对设施或流程设施、例如用于食品生产的设施的清洁是对于产品安全来说是必要的步骤。因此，通常设施根据预定的清洁程序在确定的时间点被清洁。

为了确认设施的污染度或清洁度，在此尤其使用了电容式传感器来测量覆着物形成(Belagbildung)。

因此，例如EP 1 376 112 B1描述了一种电容式传感器，其经由专门成形的电容器来测量覆着物形成，电容式的传感器的工作原理基于如下：电容器的电阻抗依赖于沉积在电容器上的覆着物的介电特性。

此外，对于用于确认设施的或食品设施的污染度或清洁度的公知的传感装置和方法来说不利的是，仅可以针对有限的覆着物层厚来测量覆着物层结构，并且例如不能够进行对设施的卫生状态的跨越过有效的生产和清洁周期的监控。

此外，这会导致低效的和效率低下的清洁流程和缩短的生产时间，这是因为在没有更准确的关于设施的卫生状态的数据时和由于应用超规格的安全系数会出现没有必要的长的清洁时间，以及发生随之而来的对资源，例如水、化学品和能量的没有必要的消耗。

因此，也会导致错误规定时间表的，也就是说过早或过晚地设定的清洁流程，这是因为不能够准确地检验清洁的必要性。

清洁流程在此例如可以被理解为所有由现有技术公知的方法或方法进程，以便在不进行过多拆卸的情况下使食品设施没有污物。例如将所谓的“Cleaning in Place(现场清洗)”或者说CIP法以及所谓的“Sterilisation in Place(现场除菌)”或者说SIP法尤其视为此。CIP法在此可以以如下方式运行：以水清洗设施，例如在提高了的温度提高的情况下以碱剂清洁设施；清洗设施，例如在提高了的温度提高的情况下以酸性的清洁剂清洁设施，以水清洗设施。如果要例如附加地进行除菌(SIP)，那么可以利用除菌剂，如例如具有温度大于120°的水或化学除菌剂来处理。根据要求，只进行基本的清洁也可以是足够的。在特别难以清洁的产品中，在基本的清洁之前也可以附加地以酸来清洁。

发明内容

因此，本发明的任务是提供一种器件，利用该器件可以改进对设施或者说流程设施，例如对用于食品生产的设施的卫生状态的监控，尤其是例如在对卫生状态进行监控的效率和效果方面以及在对设施进行清洁的效率和效果方面进行改进。

这方面根据本发明通过根据权利要求1的系统、根据权利要求8的方法、根据权利要求12的传感器、根据权利要求13的方法和根据权利要求15的方法实现。有利的实施方式和改进方案是从属权利要求的主题。

用于监控流程设施、例如食品设施的卫生状态的并且用于监控和控制流程设施、例如食品设施的清洁流程的系统在此可以包括用于测量流程设施、例如食品设施的部分上的覆着物的至少两个覆着物传感器，其中，至少两个覆着物传感器可以具有不同的测量范围。此外，至少两个覆着物传感器可以被配置成用于能够根据不同的测量原理工作。

覆着物在此可以被理解为在设施部分上、尤其是例如在设施内壁(尤其是例如管状线路的内壁部)上的所有不期望的沉积部，如例如尤其被理解为矿物的、有机的和混合式有机矿物的沉积部。

典型的覆着物或污物，例如矿物质、蛋白质或淀粉在此尤其会沉积在相对周围环境具有提高的温度的部分或表面上，例如沉积在热交换器上。

对覆着物的测量例如尤其可以被理解为对覆着物层厚的测量。

然而，对覆着物的测量也可以包括对覆着物的其他物理特性的测量和/或对在其上形成有覆着物的流程设施、例如食品设施的周围环境的测量和/或对流程设施、例如食品设施的产品，例如流过流程设施、例如食品设施的产品或清洁介质的测量。

所要测量的特性或所要测量的物理特性在此例如可以被理解为导电性或导热性、电容量、热容量和/或光学吸收和/或发射特性(例如荧光特性)，和/或其中一个或多个如下的特性，如流动速度、流率、浑浊度、颜色、pH值、温度、设施中的压力或压力损失、设施的管件外壁的传热系数、清洁介质和/或产品中的特定的颗粒的浓度、挥发性组份的存在性；被加工产品的产品特性，例如粘性、成分、在线滴定的测量值、透射或反射测量、来自不同的在线流动注射分析的反应的测量值、UV吸收测量值、振荡和衰减特性、超声波测量、与波长有关的光散射和/或光学活性(极化角度改变)。