[发明专利]微型发光元件结构有效
申请号: | 201710958309.5 | 申请日: | 2017-10-16 |
公开(公告)号: | CN109671671B | 公开(公告)日: | 2021-02-26 |
发明(设计)人: | 林子旸;陈培欣;史诒君;陈奕静;李玉柱 | 申请(专利权)人: | 錼创显示科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/78 | 分类号: | H01L21/78;H01L33/00 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 马雯雯;臧建明 |
地址: | 中国台湾新竹县*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 微型 发光 元件 结构 | ||
1.一种微型发光元件结构,其特征在于,包括:
临时基板;
至少一微型发光元件,配置于所述临时基板上;
多个固定结构,分散配置于所述至少一微型发光元件的边缘,且位于所述临时基板与所述至少一微型发光元件之间并直接接触所述临时基板;以及
缓冲层,配置于所述至少一微型发光元件、所述多个固定结构与所述临时基板之间。
2.根据权利要求1所述的微型发光元件结构,其特征在于,所述至少一微型发光元件与所述多个固定结构的接触面积与所述至少一微型发光元件于所述临时基板上的正投影面积的比值介于0.05至0.15之间。
3.根据权利要求1所述的微型发光元件结构,其特征在于,所述多个固定结构相对于所述至少一微型发光元件的中心处呈对称排列。
4.根据权利要求1所述的微型发光元件结构,其特征在于,所述多个固定结构分别切齐于所述至少一微型发光元件的所述边缘。
5.根据权利要求1所述的微型发光元件结构,其特征在于,所述多个固定结构的每一个包括第一固定结构与第二固定结构,所述第一固定结构位于所述至少一微型发光元件与所述临时基板之间,而所述第二固定结构位于所述第一固定结构的外侧,且直接接触所述临时基板与所述至少一微型发光元件的侧面。
6.根据权利要求5所述的微型发光元件结构,其特征在于,所述多个固定结构的每一个的所述第一固定结构与所述第二固定结构无缝连接。
7.根据权利要求5所述的微型发光元件结构,其特征在于,所述第二固定结构与所述至少一微型发光元件的所述侧面的接触面积与所述至少一微型发光元件的所述侧面的表面积的比值介于0.05至0.5之间,且所述第二固定结构接触所述至少一微型发光元件的所述侧面的高度与所述至少一微型发光元件的芯片高度的比值介于0.1至0.8之间。
8.根据权利要求1所述的微型发光元件结构,其特征在于,所述缓冲层直接接触所述多个固定结构。
9.根据权利要求8所述的微型发光元件结构,其特征在于,所述缓冲层直接接触所述多个固定结构、所述至少一微型发光元件及所述临时基板,且所述缓冲层间具有多个空气间隙。
10.根据权利要求8所述的微型发光元件结构,其特征在于,所述缓冲层包括第一缓冲层与第二缓冲层,所述第一缓冲层直接接触所述至少一微型发光元件,而所述第二缓冲层直接接触所述临时基板,且所述第一缓冲层与所述第二缓冲层之间具有空气间隙。
11.根据权利要求8所述的微型发光元件结构,其特征在于,所述缓冲层直接接触所述临时基板,且所述缓冲层与所述至少一微型发光元件之间具有空气间隙。
12.根据权利要求8所述的微型发光元件结构,其特征在于,所述缓冲层直接接触所述至少一微型发光元件,且所述缓冲层与所述临时基板之间具有空气间隙。
13.根据权利要求1所述的微型发光元件结构,其特征在于,所述缓冲层直接接触所述临时基板与所述至少一微型发光元件,且所述缓冲层设置于所述至少一微型发光元件的中间,所述至少一微型发光元件、所述临时基板、所述缓冲层以及所述多个固定结构之间具有多个空气间隙。
14.根据权利要求1所述的微型发光元件结构,其特征在于,所述缓冲层的剖面轮廓为不规则形。
15.根据权利要求1所述的微型发光元件结构,其特征在于,所述至少一微型发光元件包括二个微型发光元件,所述多个固定结构的其中一个位于该些微型发光元件与该临时基板之间。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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