[发明专利]液体工艺装置

权利要求书

1.一种液体工艺装置，用以对一晶圆的表面供给一液体以进行液体工艺，其特征在于，该液体工艺装置包括：

一基座；

一旋转轴，连接该基座且具有一轴内通道；

一固定件，连接该旋转轴且用以固定该晶圆，该固定件具有一穿设的通孔，该通孔与该轴内通道连通；

一液体供给件，提供该液体至该晶圆的表面；

一防漏件，与该通孔连通，防漏件包括一气液分离单元以及一开关件，该气液分离单元与该通孔连通，该开关件包括一排液通道，该开关件通过该排液通道与该气液分离单元连通，以控制由该气液分离单元排出的该液体流量；以及

一气体供应件，连通该防漏件且提供一气体源至该固定件；

其中当该液体从该固定件的该通孔进入该旋转轴时，该液体流向该防漏件中，以防止该液体流向该气体供应件；藉由该气液分离单元与该通孔连通，使由该通孔进入该旋转轴的该液体储存于该气液分离单元。

2.如权利要求1所述的液体工艺装置，其特征在于，该气体供应件包括一气体通道以及一控制开关，该气体供应件通过该气体通道与该气液分离单元连通，该控制开关设置于该气体通道，以控制该气体通道内的一气体压力。

3.如权利要求2所述的液体工艺装置，其特征在于，当该液体从该固定件的该通孔进入该旋转轴时，该控制开关断开该气体供应件与该气液分离单元的连通。

4.如权利要求2所述的液体工艺装置，其特征在于，当该气体压力为一负压时，该晶圆固定于该固定件，当该气体压力为一非负压时，该晶圆自该固定件移动。

5.如权利要求1所述的液体工艺装置，其特征在于，该防漏件更包括一检测件，该检测件设置于该气液分离单元的一侧以检测该气液分离单元内的该液体的容量。

6.如权利要求5所述的液体工艺装置，其特征在于，该检测件为一液位检测器或一液重检测器。

7.如权利要求1所述的液体工艺装置，其特征在于，该气液分离单元设置于该轴内通道，该防漏件包括一气液通道，且该防漏件通过该气液通道与该通孔连通。

8.如权利要求1所述的液体工艺装置，其特征在于，该气液分离单元设置于该基座远离该旋转轴的一侧，该防漏件包括一气液通道，该防漏件通过该气液通道与该轴内通道的一端连通，其中该防漏件通过该气液通道与该通孔连通。

9.如权利要求7或8所述的液体工艺装置，其特征在于，该气液通道远离该通孔的一端具有一第一端口，该气体通道接近该通孔的一端具有一第二端口，该第一端口和该气液分离单元的底部相距一第一间距，该第二端口和该气液分离单元的底部相距一第二间距，该第一间距小于该第二间距。

10.如权利要求1所述的液体工艺装置，其特征在于，该旋转轴为一旋转马达。

11.如权利要求1所述的液体工艺装置，其特征在于，该液体工艺装置更包括一液体收集件，该液体收集件设置于该基座且收集由该旋转轴带动该晶圆旋转时所喷出的该液体。

12.如权利要求1所述的液体工艺装置，其特征在于，更包括一具有一缓冲空间的缓冲容器，该缓冲容器和该防漏件以及该气体供应件彼此连通，其中该液体工艺装置为多个，该气体供应件提供该气体源至该缓冲空间，当其中至少一个该液体工艺装置异常时，其余该液体工艺装置通过该缓冲空间的一缓冲气压维持正常运作。