[发明专利]液体工艺装置

说明书

一种液体工艺装置，用以对一晶圆的表面供给一液体以进行液体工艺。液体工艺装置包括一基座、一旋转轴、一固定件、一液体供给件、一防漏件和一气体供应件。旋转轴连接基座且具有一轴内通道。固定件连接旋转轴且用以固定晶圆，固定件具有一穿设的通孔，通孔与轴内通道连通。液体供给件提供液体至晶圆的表面。防漏件与通孔连通。气体供应件连通防漏件且提供一气体源至固定件。当液体从固定件的通孔进入旋转轴时，液体流向防漏件中，以防止液体流向气体供应件。

技术领域

本发明是关于一种液体工艺装置，特别是一种可防止液体不当的流进液体工艺装置内部而造成设备毁损的液体工艺装置。

背景技术

在制作半导体晶圆的过程中，会需要将晶圆放在液体工艺机台上，让晶圆在液体工艺机台上旋转，并且使液体工艺机台对晶圆的表面施加酸液以进行蚀刻；待蚀刻工艺结束后，会再使液体工艺机台对晶圆的表面施加清洗液以进行清洁。一般的液体工艺机台具有一旋转平台、一抽气通道和一抽气机。抽气通道的一端连通抽气机，另一端穿过旋转平台，如此一来，当抽气机抽气时，抽气通道设于旋转平台的一端会产生吸引力；藉此，放置在旋转平台上的晶圆会被该吸引力吸住，而不会在旋转时被甩出旋转平台。

然而，若是晶圆上有裂缝，则液体工艺机台在对旋转的晶圆的表面施加液体时，液体可能会穿过裂缝而被抽气通道的吸引力吸住，此时，被抽气通道吸到的液体，便会经由抽气通道而渗入抽气机或液体工艺机台内部的其他元件内，而造成液体工艺机台的元件毁损。

因此，有必要提供一种新的液体工艺机台，其可防止液体不当的流进液体工艺机台内部而造成设备毁损。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种可防止液体不当的流进液体工艺装置内部而造成设备毁损的液体工艺装置。

为达成上述的目的，本发明的一种液体工艺装置，用以对一晶圆的表面供给一液体以进行液体工艺。液体工艺装置包括一基座、一旋转轴、一固定件、一液体供给件、一防漏件和一气体供应件。旋转轴连接基座且具有一轴内通道。固定件连接旋转轴且用以固定晶圆，固定件具有一穿设的通孔，通孔与轴内通道连通。液体供给件提供液体至晶圆的表面。防漏件与通孔连通。气体供应件连通防漏件且提供一气体源至固定件。当液体从固定件的通孔进入旋转轴时，液体流向防漏件中，以防止液体流向气体供应件。

根据本发明之一实施例，防漏件包括一气液分离单元以及一开关件，气液分离单元与通孔连通，以使由通孔进入旋转轴的液体储存于气液分离单元。开关件包括一排液通道，开关件通过排液通道与气液分离单元连通，以控制由气液分离单元排出的液体流量。

根据本发明之一实施例，气体供应件包括一气体通道以及一控制开关，气体供应件通过气体通道与气液分离单元连通，控制开关设置于气体通道，以控制气体通道内的一气体压力。

根据本发明之一实施例，当液体从固定件的通孔进入旋转轴时，控制开关断开气体供应件与气液分离单元的连通。

根据本发明之一实施例，其中当气体压力为一负压时，晶圆固定于固定件，当气体压力为一非负压时，晶圆自固定件移动。

根据本发明之一实施例，防漏件更包括一侦测件，侦测件设置于气液分离单元的一侧以侦测气液分离单元内的液体的容量。

根据本发明之一实施例，其中侦测件为一液位侦测器或一液重侦测器。

根据本发明之一实施例，气液分离单元设置于轴内通道，防漏件包括一气液通道，且防漏件通过气液通道与通孔连通。

根据本发明之一实施例，其中气液分离单元设置于基座远离旋转轴的一侧，防漏件包括一气液通道，防漏件通过气液通道与轴内通道的一端连通，其中防漏件通过气液通道与通孔连通。