[发明专利]密封件和密封系统

说明书

本发明涉及一种密封件和密封系统，具有至少一个密封唇(2)的密封件(1)，该密封件用于密封在机器元件(4)与壳体(5)之间的间隙(3)，该密封件包括由弹性材料制成的基体(6)，其中，该基体(6)配备成可导电的并且在外侧至少部分地利用由电绝缘材料制成的覆盖罩(7)遮盖。本发明也涉及一种具有这种密封件(1)的密封系统(9)，其中，设置有评估电子装置并且该评估电子装置检测在基体(6)与机器元件(4)之间的电容。此外，本发明涉及一种监控这种密封系统(9)的方法。

技术领域

本发明涉及一种具有至少一个密封唇的密封件，该密封件用于密封在机器元件与壳体之间的间隙，该密封件包括由弹性材料制成的基体。此外，本发明涉及一种密封系统，该密封系统用于密封在机器元件与壳体之间的间隙，该密封系统包括至少一个密封件。本发明还涉及一种用于监控密封系统的方法。

背景技术

密封件、尤其是动态受载的密封件在预测的使用寿命期间磨损，其中，不同的磨损现象起作用。由于材料疲劳，密封件的接触压力减小，同样压紧力减小。由于磨损和设置行为，密封件的尺寸发生改变。该过程导致，首先发生泄露并且随后发生密封系统的失效。

已知将用于泄露监控的装置集成到密封件中以用于密封件的泄露监控。由DE 102007 007 405 B4已知一种电装置，该电装置用于识别动态密封元件的磨损状态。所述密封元件包括一个可导电的区段和一个不可导电的区段，该不可导电的区段与要密封的机器元件接触。所述机器元件同样是可导电的。由于所述密封元件的磨损，不可导电的密封材料磨损，使得可导电的密封材料与机器元件接触。在此，电路接通并且可以确定密封元件已磨损。在所述实施方案中不利的是，不能检测逐渐的状态改变。仅可以确定已达到磨损极限并且必须更换密封元件。

发明内容

本发明的任务是，提供一种密封件以及一种密封系统，该密封系统能够实现持久地监控密封件的状态。也应该说明一种用于状态监控的方法。

所述任务通过根据本发明的密封件得以解决。所述密封件具有至少一个密封唇。该密封件用于密封在机器元件与壳体之间的间隙，所述密封件包括由弹性材料制成的基体，其中，所述基体配备成可导电的并且在外侧至少部分地利用由电绝缘材料制成的覆盖罩遮盖。所述覆盖罩至少配设给基体的如下区域，所述区域与机器元件以及壳体接触。为了解决该任务，密封件的基体配备成可导电的并且在外侧至少部分地利用由电绝缘材料制成的覆盖罩遮盖。在此，所述覆盖罩跟随所述基体的外部轮廓。在此，该覆盖罩具有相对小的厚度并且面状地贴靠在基体上。

测量原理依据如下：在密封件的基体与机器元件之间或在密封件的基体与壳体之间施加电压并且确定在各结构元件之间的电容。电容的主要影响参数是：绝缘介质的电常数，该介质在当前情况中是覆盖罩；以及基体相对于机器元件的面积和机器元件与基体之间的距离。如果由于磨损增加使得覆盖罩的厚度改变，则因此在所述各元件之间的电容也改变，这可以通过合适的评估电子装置来检测。所述评估电子装置可以具有电容测量仪器、存储器和输出装置、例如灯、打印机或屏幕显示器。通过这种实施方案也可以检测逐渐的变化和逐渐的磨损。这能够实现持久地监控密封件、密封系统以及密封功能的状态。基于所述持久的状态监控，可以在密封件失效之前及时地警告并且从而避免密封系统的泄露。按照本发明的密封件的实施方案可用于所有的由于动态受载而经受磨损的密封系统。本发明相对于基于短路测量的磨损感应系统也是有利的。因为在所述系统中，密封系统的尺寸必须非常精确地与随时间的尺寸变化相协调。只不过信号同样实际上在泄露前不久才产生。但安装情况、例如其它的偏差或其它的挤压在每个系统中可以是不同的，使得每个系统必须用非常多的花费彼此相协调，因为否则泄露可能已经在产生信号之前发生。本发明有利的是，这种与尺寸变化的协调不是必须的，而是密封系统可以通过在许多应用上进行电容测量来校准。

覆盖罩可以至少配设给基体的这些区域，所述区域与机器元件和壳体接触。在此，覆盖罩可以在外周侧完全包围基体。在其它的实施方案中，基体的区域也可以保持未遮盖。在此，尤其是可设想如下区域，这些区域指向密封间隙并且既不与机器元件接触也不与壳体接触。覆盖罩优选材料锁合地连接到基体上。