[发明专利]照明装置及曝光装置在审
申请号: | 201710983508.1 | 申请日: | 2013-05-22 |
公开(公告)号: | CN107741685A | 公开(公告)日: | 2018-02-27 |
发明(设计)人: | 根岸武利;福井达雄 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所11256 | 代理人: | 陈伟,沈静 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 照明 装置 曝光 | ||
1.一种照明装置,对被处理物照射沿第1方向延伸的狭缝状的照明光,其特征在于,具备:
多个固体光源部,在将所述狭缝状的照明光所照射的狭缝状的照明区域分成所述第1方向长且所述第2方向短的多个局部照明区域时,该多个固体光源部以对所述多个局部照明区域各自分别照射所述照明光的方式配置;和
光束合成部,其沿着所述狭缝状的照明区域配置,将所述第1方向设为长度方向且截面为三角形的2个棱镜的包含长度方向的斜面相互接合,以所述斜面上的沿着所述第1方向的部分中的、与所述多个局部照明区域的第奇数个和第偶数个中的某一方对应的部分相对于所述照明光成为通过部、且与另一方对应的部分相对于所述照明光成为反射部的方式,形成有反射膜。
2.如权利要求1所述的照明装置,其特征在于,
所述光束合成部具有中间部,所述中间部配置在所述第1方向上的所述通过部与所述反射部之间,所述中间部相对于所述照明光的反射率设定为比所述通过部相对于所述照明光的反射率高、且比所述反射部相对于所述照明光的反射率低。
3.如权利要求2所述的照明装置,其特征在于,
来自所述多个固体光源部各自的所述照明光从所述光束合成部的包含所述通过部和所述中间部的区域、或者包含所述反射部和所述中间部的区域通过而向所述多个局部照明区域各自照射。
4.如权利要求3所述的照明装置,其特征在于,
在所述光束合成部的所述斜面上形成的反射膜设定为密度按照所述反射部、所述中间部、所述通过部的顺序相对地变低。
5.如权利要求4所述的照明装置,其特征在于,
所述光束合成部通过将在所述斜面上成膜的所述反射膜中的、与所述通过部或所述中间部对应的区域的所述反射膜局部地除去,而将反射膜的密度设定为按照所述反射部、所述中间部、所述通过部的顺序相对地变低。
6.一种曝光装置,一边将沿第1方向延伸的狭缝状的照明光向掩膜图案的一部分照射、一边使所述狭缝状的照明光和所述掩膜图案沿着与所述第1方向交叉的第2方向相对地移动,利用从所述掩膜图案通过的所述照明光对基板的感光层进行曝光,所述曝光装置的特征在于,具备:
第奇数个用的多个光源部,在将所述狭缝状的照明光所照射的狭缝状的照明区域分成所述第1方向长且所述第2方向短的多个局部照明区域时,所述第奇数个用的多个光源部以对所述多个局部照明区域中的沿着所述第1方向的第奇数个的所述局部照明区域各自分别照射所述照明光的方式,相对于所述狭缝状的照明区域的法线配置于所述第2方向的一侧;
第偶数个用的多个光源部,其以对所述多个局部照明区域中的沿着所述第1方向的第偶数个的所述局部照明区域各自分别照射所述照明光的方式,相对于所述狭缝状的照明区域的法线配置于所述第2方向的另一侧;和
偏转部件,其具有多个第奇数个用的反射镜和多个第偶数个用的反射镜,所述多个第奇数个用的反射镜使向所述第奇数个的局部照明区域各自照射的来自所述第奇数个用的多个光源部各自的所述照明光从所述一侧向所述法线的方向反射,所述多个第偶数个用的反射镜使向所述第偶数个的局部照明区域各自照射的来自所述第偶数个用的多个光源部各自的所述照明光从所述另一侧向所述法线的方向反射。
7.如权利要求6所述的曝光装置,其特征在于,
在将与所述第1方向平行且沿所述狭缝状的照明区域的法线的方向通过的面设为第1面时,所述第奇数个用的多个反射镜和所述第偶数个用的多个反射镜关于所述第1面对称地配置。
8.如权利要求7所述的曝光装置,其特征在于,
所述第奇数个用的多个反射镜各自和所述第偶数个用的多个反射镜各自相对于所述第1面倾斜45°地配置。
9.如权利要求8所述的曝光装置,其特征在于,
在从朝向所述多个局部照明区域各自照射的所述照明光的行进方向观察时,所述第奇数个用的多个反射镜各自与所述第偶数个用的多个反射镜各自的在所述第1方向上相邻的反射镜之间的各境界以相对于所述第2方向倾斜地交叉的方式设定。
10.如权利要求9所述的曝光装置,其特征在于,
将所述第奇数个用的多个反射镜各自和所述第偶数个用的多个反射镜各自的反射面的外形设为梯形状。
11.一种曝光装置,使沿着从中心线以规定半径弯曲成圆筒状的外周面保持有透射型的掩膜图案的旋转滚筒绕所述中心线旋转,从所述旋转滚筒的内部向所述掩膜图案照射与所述中心线平行地延伸的狭缝状的照明光,通过从所述掩膜图案透射的光对基板的感光层进行曝光,所述曝光装置的特征在于,
具备多个照明模块,在将所述狭缝状的照明光所照射的狭缝状的照明区域在所述中心线所延伸的第1方向上分成多个局部照明区域时,该多个照明模块与所述多个局部照明区域各自对应地在所述旋转滚筒内沿着所述第1方向配置,并对所述局部照明区域各自照射照明光,
使从所述多个照明模块各自朝向所述局部照明区域的所述照明光的扩散角在与所述第1方向正交的第2方向、及所述第1方向上为各向同性。
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