[发明专利]一种GST致密晶粒结构的自洁净玻璃的制造方法有效
| 申请号： | 201710989336.9 | 申请日： | 2017-10-20 |
| 公开（公告）号： | CN107698172B | 公开（公告）日： | 2020-08-21 |
| 发明（设计）人： | 兰明雄;徐海滨;汪玉波;沈阮顺;候英兰;江亚聪;郑崇;吴剑波;洪伟强;郑艺钦;黄毅斌;何成丹;沈华艺;杨斌;张炼文;杜川 | 申请（专利权）人： | 漳州旗滨玻璃有限公司;株洲醴陵旗滨玻璃有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/245 | 分类号： | C03C17/245 |
| 代理公司： | 厦门市首创君合专利事务所有限公司 35204 | 代理人： | 张松亭;姜谧 |
| 地址： | 363000 福*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 gst 致密 晶粒 结构 洁净 玻璃 制造 方法 | ||
1.一种GST致密晶粒结构的自洁净玻璃的制造方法，其特征在于：该自洁净玻璃具有一复合膜层，通过膜层折射率梯度来降低复合膜层的折射率，且该复合膜层中掺杂质量分数为10~20%的二氧化硅，包括如下步骤：
（1）在锡槽的635~640℃的温度区域设置第一镀膜反应装置，在锡槽的620~630℃的温度区域设置第二镀膜反应装置；
（2）将第一原料气体中的各组分送入蒸发器前预热器进行预热，再送入蒸发温度为110~120℃的蒸发器中加热形成第一原料气体，接着将第一原料气体通过精确的计量系统计量送入第一镀膜反应装置中，对锡槽中的玻璃基片进行镀膜反应，以进行Si原子掺杂及确定膜层折射率，得镀膜基片；上述第一原料气体中，TTIP的摩尔百分比为0.2%，H2O的摩尔百分比5.0%，载气的摩尔百分比81.9%，O2的摩尔百分比12.9%；
（3）将第二原料气体中的各组分送入蒸发器前预热器进行预热，再送入蒸发温度为80~90℃的蒸发器中加热形成第二原料气体，接着将第二原料气体通过精确的计量系统计量送入第二镀膜反应装置中，对锡槽中的镀膜玻璃基片进行镀膜反应，以进一步进行Si原子掺杂及确定膜层折射率，即在玻璃基片上制得复合膜层，并制得所述GST致密晶粒结构的自洁净玻璃；上述第二原料气体中，TTIP的摩尔百分比为0.6%，H2O的摩尔百分比为4.0%，载气的摩尔百分比为84.0%，O2的摩尔百分比为11.4%；
第一原料气体中的TTIP是钛酸异丙酯与正硅酸四乙酯质量分数为90%:10%进行配比；第二原料气体中的TTIP是钛酸异丙酯与正硅酸四乙酯质量分数为80%:20%进行配比；上述载气为氮气或氦气。
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