[发明专利]一种化学镍专用后浸剂及印制线路板上金方法有效

专利信息
申请号: 201710991710.9 申请日: 2017-10-23
公开(公告)号: CN107815671B 公开(公告)日: 2019-01-25
发明(设计)人: 陈方 申请(专利权)人: 浙江君浩电子股份有限公司
主分类号: C23C18/30 分类号: C23C18/30;C23C18/32;C23C18/42
代理公司: 温州金瓯专利事务所(普通合伙) 33237 代理人: 林岩龙
地址: 325000 浙江省温州市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 化学镍 浸剂 上金 线路板 十二烷基苯磺酸钠 集成电路技术 弱碱性试剂 有机络合物 印制 产品品质 单面纸板 发明配置 三乙酸铵 脂肪酸钾 不良率 配置的 弱碱性 药水 活化 基材 开窗 毛边 去除 渗镀 油墨 阻焊 残留
【说明书】:

发明属于集成电路技术领域,具体涉及一种化学镍专用后浸剂及印制线路板上金方法,包含十二烷基苯磺酸钠、脂肪酸钾、三乙酸铵,所述化学镍专用后浸剂为弱碱性试剂。本发明配置的弱碱性化学镍专用后浸剂可以用于密IC、BGA线路板阻焊桥、开窗位基材及油墨处,防止或杜绝渗镀、毛边问题的产生,可有效去除活化中带酸性的残留药水及有机络合物,并且通过采用所配置的化学镍专用后浸剂,可以显著提高产品品质,尤其是CEM‑1单面纸板孔内上金孔内上金不良率可以显著降低至0。

技术领域

本发明属于集成电路技术领域,具体涉及一种化学镍专用后浸剂及印制线路板上金方法。

背景技术

印制线路板化镍金处理的过程包括除油(酸洗)、微蚀、酸洗、预浸、活化、化学镍、化学金,工序之间通过水洗去除大部分的前一工序所残留的浸泡溶液。其中活化通过钯后浸工序所采用的后浸剂为酸性试剂,一般为稀释的硫酸,以去除钯周围的有机络合物及还原剂,显着提高钯层的导电能力,从而确保在大面积的非导体表面也能获得有效而可靠的直接电镀层,但酸性后浸剂对开窗位置基材清洗效果差,尤其是CEM-1板材,无法清洗感觉基材开窗位置活化残留的钯,会导致在镀镍中镍槽内沉上一层镍,然后在镀金中金槽内沉上一层金,从而导致最后得到的产品品质不良。

发明内容

本发明针对上述问题,提供一种化学镍专用后浸剂及印制线路板上金方法。

本发明的有益效果如下:一种化学镍专用后浸剂,包含十二烷基苯磺酸钠、脂肪酸钾、三乙酸铵,所述化学镍专用后浸剂为弱碱性试剂。

所述十二烷基苯磺酸钠的质量含量为1-1.5%、脂肪酸钾的质量含量为0.5-0.75%、三乙酸铵的质量含量为0.5-0.75%,其余为水。

一种印制线路板上金方法,包括除油(酸洗)、微蚀、酸洗、预浸、钯活化、化学镍、化学金,在后浸工序中,所用的后浸剂为上述的化学镍专用后浸剂。

在后浸工序中,先将水加至总量的1/2至5/6,以30~50ml/L的浓度加入后浸剂,充分搅拌至完全混合,然后加水至总量,将印制线路板放入,在20~30摄氏度下浸泡2~5分钟,然后取出进入下一步工序。

印制线路板后浸在5 μm P.P. 滤心连续过滤下进行,并通过气震及电震进行震动。

后浸剂稀释搅拌通过摆动及药液循环搅拌。

在钯活化工序中,印制线路板活化浸泡时间为75~85 s。

在化学镍工序中,浸泡温度为69~71摄氏度。

本发明的有益效果如下:本发明配置的弱碱性化学镍专用后浸剂可以用于密 IC、BGA 线路板阻焊桥、开窗位基材及油墨处,防止或杜绝渗镀、毛边问题的产生,可有效去除活化中带酸性的残留药水及有机络合物,并且通过采用所配置的化学镍专用后浸剂,可以显著提高产品品质,尤其是CEM-1单面纸板孔内上金孔内上金不良率可以显著降低至0。

具体实施方式

下面结合具体实施例,可以更好地说明本发明。

实施例1

CEM-1单面纸板上金,包括以下步骤:

A:利用酸性清洁剂对CEM-1单面纸板进行清洁除油,45℃下处理5分钟,然后水洗;

B:利用微蚀剂对CEM-1单面纸板进行微蚀处理,采用100g/LSPS与2%硫酸混合,20-30℃下处理1-1.5分钟,水洗;

C:利用酸性清洁剂对CEM-1单面纸板进行酸洗,采用3%硫酸,室温下处理1-1.5分钟,水洗;

D:利用预浸剂对CEM-1单面纸板进行预浸处理,采用7.5ml/L硫酸,室温下处理1分钟,水洗;

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