[发明专利]掩膜装置

说明书

技术领域

本发明涉及有机发光显示制造技术领域，特别是涉及掩膜装置。

背景技术

AMOLED(Active-matrix organic light emitting diode，有源矩阵有机发光二极体)生产制程中最影响良率的制程为蒸镀制程，蒸镀制程的基本过程即通过加热有机材料，使得有机材料蒸发，并通过高精度精细掩膜板蚀刻完成的通孔蒸镀到玻璃基板上，形成发光单元。蒸镀制程中，蒸发后的有机材料通过掩膜板的有效区的通孔蒸镀到基板上，形成显示屏的AA(Ative Area，有效显示区域)区，也称显示区。

高精度精细掩膜板通常通过蚀刻方法制作。高精度精细掩膜板厚度通常不大于40μm，由于其厚度较小，因此，传统的高精度精细掩膜板非常柔软，极易变形。

为了防止掩膜板变形，目前传统的高精度精细掩膜板的设计方案通常需要在蒸镀的有效区之外设置Dummy(预留)区，通过Dummy区来减少因高精度精细掩膜板在张网力作用下的变形；然而传统的高精度精细掩膜板的设计方案因有效区和Dummy区之间会存在不被蚀刻的实体部分，导致高精度精细掩膜板整体的力学性能参数不一样，在张网受力的影响下容易产生褶皱，褶皱的产生会使得蒸镀产品产生混色，混色的产生会严重影响AMOLED的良率。

为了避免有有效区和Dummy区由于力学性能参数不一致导致的褶皱，可以在高精度掩膜板的有效区蚀刻的蚀刻孔，还在Dummy区蚀刻相同的蚀刻孔。这样，需要在Dummy采用长条状的遮挡条进行遮挡，以免有机材料通过Dummy区的蚀刻孔沉积到基板上AA区以外的部分，最终导致产品失效。

然而对于异形的AA区(即AA区为非常规的形状)，其Dummy区的蚀刻孔无法用长条状的遮挡条进行遮挡，从而导致材料通过Dummy沉积到基板上，最终导致蒸镀的显示屏产生不良。对于异形AA区，高精度掩膜板对应有效显示区部分的蚀刻孔区域若做成对应的异形区域，会导致高精度掩膜板在受力时，弹性应变不一致，而使得掩膜板整体变形不一致，产生褶皱，影响产品良率。

发明内容

基于此，有必要提供一种掩膜装置。

一种玻璃的加工方法，包括：掩膜板和遮挡件；

所述掩膜板上均匀开设有若干通孔；

所述遮挡件抵接于所述掩膜板，所述遮挡件开设有通口，所述通口的形状为不规则形状，所述通口对齐于所述掩膜板上的部分所述通孔，且所述通口与对齐的各所述通孔连通，所述遮挡件挡设于所述掩膜板上的剩余部分所述通孔。

在其中一个实施例中，所述掩膜板包括预留区和有效蒸镀区，所述预留区设置于所述有效蒸镀区的外侧，所述通口的形状与所述有效蒸镀区的形状匹配，且所述通口对齐于所述有效蒸镀区；

各所述通孔包括若干第一通孔和若干第二通孔，各所述第一通孔均匀开设于所述有效蒸镀区，各所述第二通孔均匀开设于所述预留区；

所述通口与各所述第一通孔连通，且所述遮挡件挡设于各所述第二通孔。

在其中一个实施例中，所述遮挡件的形状与所述预留区的形状匹配，且所述遮挡件对齐于所述预留区。

在其中一个实施例中，所述第二通孔的形状与所述第一通孔的形状相同。

在其中一个实施例中，所述第二通孔的尺寸与所述第一通孔的尺寸相等。

在其中一个实施例中，所述第二通孔之间的间距与所述第一通孔之间的间距相等。

在其中一个实施例中，所述第一通孔和所述第二通孔分别具有圆形截面，且所述第一通孔的孔径和所述第二通孔的孔径相等。

在其中一个实施例中，所述第一通孔和所述第二通孔分别具有方形截面，且所述第一通孔的宽度和所述第二通孔的宽度相等。

在其中一个实施例中，所述第一通孔和所述第二通孔分别具有多边形截面，且所述第一通孔的宽度和所述第二通孔的宽度相等。

在其中一个实施例中，所述遮挡件为遮挡膜。

上述掩膜装置，通过在掩膜板上均匀开设的通孔，使得掩膜板各部分具有相同的力学性能，使得掩膜板整体形变一致，避免产生褶皱，而遮挡件的不规则形状的通口能够适应显示屏的异形的AA区，有机材料能够依次通过通口和与通口对齐的通孔蒸镀到基板上，而被遮挡件所遮挡的通孔，则能够有效挡住有机材料，使得基板上形成不规则形状的异形AA区，进而使得具有异形显示区的显示屏的蒸镀效果更佳，有效提高产品良率。

附图说明

图1为一个实施例的掩膜装置的立体分解结构示意图；