[发明专利]真空双层结构及热处理炉

权利要求书

1.一种真空双层结构，其特征在于包括：

筒状的金属制内壁构件；

筒状的金属制外壁构件，所述内壁构件容纳在所述外壁构件中；以及

密封构件，所述密封构件设置在所述内壁构件的对向表面与所述外壁构件的对向表面之间，其中，

所述密封构件包括环形间隔件、第一环形垫片材料以及第二环形垫片材料；

所述环形间隔件设置在所述内壁构件的对向表面与所述外壁构件的对向表面之间；

所述第一环形垫片材料容纳在形成于所述间隔件的相对于所述内壁构件的对向表面的第一相对表面上的第一槽中并且与所述内壁构件的对向表面邻接；

所述第二环形垫片材料容纳在形成于所述间隔件的相对于所述外壁构件的对向表面的第二相对表面上的第二槽中并且与所述外壁构件的对向表面邻接；并且

所述密封构件将所述内壁构件与所述外壁构件之间的空间维持于真空状态。

2.根据权利要求1所述的真空双层结构，其特征在于：

所述间隔件为由树脂制成的具有弹性的构件；并且

所述间隔件由设置在所述间隔件的内周表面上的金属制带状环和设置在所述间隔件的外周表面上的金属制带状环支承。

3.一种热处理炉，其特征在于包括：

根据权利要求1或2所述的第一真空双层结构；以及

根据权利要求1或2所述的第二真空双层结构，其特征在于，

所述热处理炉具有下述结构：在该结构中，所述第一真空双层结构的内壁构件的凸缘部分和所述第二真空双层结构的内壁构件的凸缘部分放置成隔着第三环形垫片材料面向彼此。