[发明专利]真空双层结构及热处理炉在审

专利信息
申请号: 201711012791.X 申请日: 2017-10-26
公开(公告)号: CN108072277A 公开(公告)日: 2018-05-25
发明(设计)人: 山下修 申请(专利权)人: 丰田自动车株式会社
主分类号: F27D1/00 分类号: F27D1/00;F27D99/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 魏金霞;王艳江
地址: 日本爱知*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 外壁构件 对向 真空双层结构 密封构件 环形间隔件 环形垫片 内壁构件 壁构件 金属制 筒状 热处理炉 容纳
【说明书】:

本发明提供了一种真空双层结构,该真空双层结构包括:筒状的金属制内壁构件;筒状的金属制外壁构件,内壁构件容纳在该外壁构件中;以及密封构件,该密封构件设置在内壁构件的对向表面与外壁构件的对向表面之间。密封构件包括环形间隔件、第一环形垫片材料以及第二环形垫片材料。环形间隔件设置在内壁构件的对向表面与外壁构件的对向表面之间。

技术领域

本发明涉及真空双层结构且特别地涉及内壁构件与外壁构件之间的空间由密封构件密封的真空双层结构,以及涉及热处理炉。

背景技术

一种广泛地用于保温瓶等的绝热的真空双层结构,该真空双层结构的位于筒状内壁与筒状外壁之间的空间被抽真空。在这种真空双层结构中,由金属制成的内壁和外壁通常一体地形成,因此,内部热量或多或少地会从内壁传递至外壁进而逸散。鉴于此,为了改善绝热性能,可以想到由不同的构件制成内壁和外壁并且通过O形环对内壁与外壁之间的空间进行密封。日本专利申请公开No.2002-241939(JP 2002-241939A)公开了一种真空处理装置,其中,利用O形环对多个构件进行密封,然而该真空处理装置不是真空双层结构。

发明内容

在通过密封构件将由金属制成的内壁构件与外壁构件之间的空间进行密封的真空双层结构方面,本发明的发明人发现了以下要点。在内壁构件和外壁构件是由不同的构件制成的真空双层结构中,当内壁构件与外壁构件之间的距离经由密封构件即O形环而被扩大时,绝热性能得以改善。由此,如果单纯地扩大O形环的直径,则绝热性能应当会改善。

然而,首先,O形环的直径的扩大是有限的,并且难以充分地扩大内壁构件与外壁构件之间的距离。此外,当O形环的直径扩大时,被真空挤压的O形环与内壁构件的相应接触面积以及与外壁构件的相应接触面积增大,这促进了从内壁构件经由O形环至外壁构件的热传递,从而导致了绝热性能没有得到很大改善的这种可能性。

本发明提供了绝热性能优异的真空双层结构。

根据本发明的一个方面的真空双层结构是下述真空双层结构,该真空双层结构包括:筒状的金属制内壁构件;筒状的金属制外壁构件,内壁构件容纳在该外壁构件中;以及密封构件,该密封构件设置在内壁构件的对向表面与外壁构件的对向表面之间。密封构件包括环形间隔件、第一环形垫片材料以及第二环形垫片材料;环形间隔件设置在内壁构件的对向表面与外壁构件的对向表面之间;第一环形垫片材料容纳在形成于间隔件的相对于内壁构件的对向表面的第一相对表面上的第一槽中并且与内壁构件的对向表面邻接;第二环形垫片材料容纳在形成于间隔件的相对于外壁构件的对向表面的第二相对表面上的第二槽中并且与外壁构件的对向表面邻接;并且密封构件将内壁构件与外壁构件之间的空间维持于真空状态。

通过根据本发明的一个方面的真空双层结构,内壁构件和外壁构件的相应的对向表面之间的距离不是通过扩大环形垫片材料的直径来扩大,而是可以通过设置间隔件来扩大垫片。此外,由于容纳在间隔件的相应的槽中的第一环形垫片材料和第二环形垫片材料分别与内壁构件和外壁构件邻接,因此可以抑制由被真空挤压的环形垫片材料与内壁构件和外壁构件之间的接触面积的增大所带来的对热传递的促进作用。因此,通过本实施方式的真空双层结构,可以改善绝热性能。

间隔件可以是由树脂制成的具有弹性的构件,并且间隔件可以由设置在该间隔件的内周表面上的金属制带状环和设置在该间隔件的外周表面上的金属制带状环来支承。通过这样的构型,可以抑制间隔件在真空状态下的屈曲。

根据本发明的一个方面的热处理炉包括第一真空双层结构和第二真空双层结构。第一真空双层结构和第二真空双层结构是上述真空双层结构,并且热处理炉具有这样的结构:在该结构中,第一真空双层结构的内壁构件的凸缘部分和第二真空双层结构的内壁构件的凸缘部分放置成隔着第三环形垫片材料面向彼此。

通过本发明,可以提供绝热性能优异的真空双层结构和热处理炉。

附图说明

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