[发明专利]单位掩膜、其制造方法及包括其的掩膜组件

权利要求书

1.一种单位掩膜，包括：

掩膜体，沿长度方向和宽度方向延伸，并且在掩膜体上形成有掩膜图案；以及

夹紧部，沿掩膜体的长度方向从掩膜体的端部延伸出，

其中，在夹紧部上形成有防滑图案，

其中，防滑图案包括形成在夹紧部上的通过刻蚀工艺形成的多个突起。

2.根据权利要求1所述的单位掩膜，其中，沿着垂直于夹紧部的表面的方向观看，突起包括条形、圆形、四边形和＜形中的至少一种形状。

3.根据权利要求1所述的单位掩膜，其中，突起的上端与掩膜体的表面位于同一平面上。

4.根据权利要求1所述的单位掩膜，其中，夹紧部包括彼此相对的第一侧和第二侧，防滑图案形成在第一侧和第二侧中的至少一侧上。

5.根据权利要求1所述的单位掩膜，其中，从掩膜体的一个端部延伸出的夹紧部包括成对的延伸部分，成对的延伸部分在掩膜体的宽度方向上彼此分隔开。

6.根据权利要求5所述的单位掩膜，其中，防滑图案形成在延伸部分上。

7.根据权利要求1所述的单位掩膜，还包括：位于掩膜体与夹紧部之间的连接部，

其中，连接部用于固定到掩膜组件的掩膜框架上。

8.根据权利要求1所述的单位掩膜，其中，掩膜体和夹紧部一体地形成。

9.根据权利要求1所述的单位掩膜，其中，单位掩膜为带状。

10.一种制造如权利要求1-9中任意一项所述的单位掩膜的方法，包括：

提供单位掩膜的前体板，前体板包括与掩膜体对应的第一区域和与夹紧部对应的第二区域；

在第一区域上形成掩膜图案；以及

在第二区域上形成防滑图案。

11.一种掩膜组件，包括：

掩膜框架，形成有开口部；

多个根据权利要求1-9中的任意一项所述的单位掩膜，固定于掩膜框架上以使单位掩膜的掩膜图案形成在开口部上。