[发明专利]一种坩埚在审
申请号: | 201711019265.6 | 申请日: | 2017-10-27 |
公开(公告)号: | CN107541703A | 公开(公告)日: | 2018-01-05 |
发明(设计)人: | 何传友;马群;崔志明;杨婷雁;雷瑶 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 | 代理人: | 刘悦晗,陈源 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 坩埚 | ||
1.一种坩埚,包括坩埚本体和多个第一挡板,所述第一挡板沿所述坩埚本体的宽度方向设置,并固定在所述坩埚本体相对设置的第一侧壁和第二侧壁上,各所述第一挡板之间具有第一间隔距离,其特征在于,所述第一挡板上设置有多个第一镂空部或多个第一凹槽。
2.如权利要求1所述的坩埚,其特征在于,还包括第二挡板,所述第二挡板沿所述坩埚本体的长度方向设置,并固定在所述坩埚本体相对的设置的第三侧壁和第四侧壁上,所述第二挡板上设置有多个第二镂空部或多个第二凹槽。
3.如权利要求2所述的坩埚,其特征在于,所述第二挡板为多个,各所述第二挡板之间具有第二间隔距离。
4.如权利要求2所述的坩埚,其特征在于,所述第一间隔距离和/或所述第二间隔距离为8-10cm。
5.如权利要求2所述的坩埚,其特征在于,各所述第一镂空部或各第一凹槽设置在所述第一挡板的下部,和/或,各所述第二镂空部或各第二凹槽设置在所述第二挡板的下部。
6.如权利要求2所述的坩埚,其特征在于,所述第一挡板和所述第二挡板的高度小于所述坩埚本体的高度。
7.如权利要求2所述的坩埚,其特征在于,所述第一挡板上的第一镂空部或第一凹槽的形状和大小,与所述第二挡板上的第二镂空部或第二凹槽的形状和大小相同。
8.如权利要求7所述的坩埚,其特征在于,所述第一挡板上的第一镂空部或第一凹槽呈矩形,所述第二挡板上的第二镂空部或第二凹槽呈矩形。
9.如权利要求8所述的坩埚,其特征在于,所述第一挡板上的第一镂空部或第一凹槽的宽度为1-1.5cm,所述第一挡板上的第一镂空部或第一凹槽的高度为2-3cm;所述第二挡板上的第二镂空部或第二凹槽的宽度为1-1.5cm,所述第二挡板上的第二镂空部或第二凹槽的高度为2-3cm。
10.如权利要求2-9任一项所述的坩埚,其特征在于,所述第一挡板的材料和/或所述第二挡板的材料包括金属或陶瓷。
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