[发明专利]一种坩埚在审

专利信息
申请号: 201711019265.6 申请日: 2017-10-27
公开(公告)号: CN107541703A 公开(公告)日: 2018-01-05
发明(设计)人: 何传友;马群;崔志明;杨婷雁;雷瑶 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 代理人: 刘悦晗,陈源
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 坩埚
【说明书】:

技术领域

发明涉及OLED(Organic Light Emitting Diode,有机发光二极管)制备技术领域,具体涉及一种坩埚。

背景技术

在制造OLED时,利用坩埚将用于制作OLED的有机材料蒸镀到OLED基板上,有机蒸镀是将有机材料加热直至汽化的过程。当有机材料的熔点低于升华温度,有机材料先转变为液态后再汽化。真空蒸镀过程中,一般选用线源坩埚盛放有机材料,坩埚外部包裹有加热丝,该加热丝在通电时可对坩埚进行加热,盛放在坩埚内的有机材料在高温下蒸发为气体,气体上升并遇到位于坩埚上方的OLED基板,在OLED基板上发生凝华,从而将有机材料蒸镀到OLED基板上。

结合图1a、图1b和图1c所示,现有的坩埚长度较大,在坩埚内部,沿坩埚长度的方向上设置多个挡板101从而将坩埚的内部空间划分为多个区域,挡板具有一个凹槽102,蒸镀材料能够沿该凹槽102在坩埚内部相邻区域之间流动。

如图2所示,在有机蒸镀过程中,如果将坩埚在A、B两个腔室之间进行快速切换,坩埚无需等待可以直接蒸镀,可以提高生产效率。在A、B两个腔室之间移动过程中,坩埚沿其长度方向移动,会造成熔融状态的蒸镀材料在坩埚内发生剧烈晃动,使蒸镀速率下降,导致蒸镀膜厚偏薄,产品色度异常。

因此亟需一种坩埚以解决上述问题。

发明内容

本发明针对现有技术中存在的上述不足,提供一种坩埚,用以至少部分解决坩埚在两个腔室之间移动造成的内部蒸镀材料产生晃动,影响蒸镀速率和产品品质的问题。

本发明为解决上述技术问题,采用如下技术方案:

本发明提供一种坩埚,包括坩埚本体和多个第一挡板,所述第一挡板沿所述坩埚本体的宽度方向设置,并固定在所述坩埚本体相对设置的第一侧壁和第二侧壁上,各所述第一挡板之间具有第一间隔距离,所述第一挡板上设置有多个第一镂空部或多个第一凹槽。

进一步的,所述坩埚还包括第二挡板,所述第二挡板沿所述坩埚本体的长度方向设置,并固定在所述坩埚本体相对的设置的第三侧壁和第四侧壁上,所述第二挡板上设置有多个第二镂空部或多个第二凹槽。

优选的,所述第二挡板为多个,各所述第二挡板之间具有第二间隔距离。

优选的,所述第一间隔距离和/或所述第二间隔距离为8-10cm。

优选的,各所述第一镂空部或第一凹槽设置在所述第一挡板的下部,和/或,各所述第二镂空部或各第二凹槽设置在所述第二挡板的下部。

优选的,所述第一挡板和所述第二挡板的高度小于所述坩埚本体的高度。

优选的,所述第一挡板上的第一镂空部或第一凹槽的形状和大小,与所述第二挡板上的第二镂空部或第二凹槽的形状和大小相同。

优选的,所述第一挡板上的第一镂空部或第一凹槽呈矩形,所述第二挡板上的第二镂空部或第二凹槽呈矩形。

优选的,所述第一挡板上的第一镂空部或第一凹槽的宽度为1-1.5cm,所述第一挡板上的第一镂空部或第一凹槽的高度为2-3cm;所述第二挡板上的第二镂空部或第二凹槽的宽度为1-1.5cm,所述第二挡板上的第二镂空部或第二凹槽的高度为2-3cm。

优选的,所述第一挡板的材料和/或所述第二挡板的材料包括金属或陶瓷。

本发明能够实现以下有益效果:

本发明提供的坩埚,通过在坩埚本体内沿其宽度方向设置多个第一挡板,各第一挡板之间间隔设置,从而将坩埚本体的内部空间划分为多个区域,第一挡板固定在坩埚本体相对设置的第一侧壁和第二侧壁上,第一挡板上设置多个第一镂空部或多个第一凹槽,这样,当坩埚沿其长度方向从一个腔室移动到另一个腔室时,坩埚本体内的蒸镀材料可以通过第一挡板上的各个第一镂空部或各个第一凹槽在坩埚本体内的各个区域之间流动,从而抑制蒸镀材料晃动,提高蒸镀材料的稳定性,保证蒸镀速率维持平稳状态,可以提高蒸镀膜层的均一性和OLED基板色度良率。

附图说明

图1a为现有的坩埚的主视图;

图1b为现有的坩埚的俯视图;

图1c为图1b中A-A’处的剖面图;

图2为现有的坩埚在进行腔室切换时蒸镀速率变化示意图;

图3a为本发明提供的坩埚的俯视图;

图3b为图3a中B-B’处的剖面图;

图3c为图3a中C-C’处的剖面图。

图例说明:

101、挡板102、凹槽 1、坩埚本体

2、第一挡板3、第二挡板 11、顶壁

12、底壁 13、第一侧壁14、第二侧壁

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711019265.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top